[实用新型]一种用于研磨装置的研磨头有效
申请号: | 201920854144.1 | 申请日: | 2019-06-07 |
公开(公告)号: | CN210081444U | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 宋锦渲;谢光萍;邓鹏;李翔宇;朱兰;刘申;李敏;罗杰伟;胡瑶 | 申请(专利权)人: | 川北医学院;宋锦渲 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B47/22;B24B45/00 |
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地址: | 637000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 研磨 装置 | ||
本实用新型属于机械研磨领域,尤其涉及一种用于研磨装置的研磨头,包括研磨机主体、研磨座和底座,研磨机主体的底部设置有研磨座,研磨座的底部设置有底座,底座顶面靠近正面和背面边缘处均焊接有限位块,限位块的中心处转动连接有螺杆,螺杆的外表壁对称套设有两个套筒,套筒的顶部均铰接有连接杆,连接杆的顶部焊接有滑块。本实用新型中,通过转动底座的转把来带动连接杆运动,进而带动研磨座运动,以此来调整研磨座的位置,进而来调整研磨座和研磨头之间的间距,来使得该研磨装置可以适用与不同大小的物品,可以进一步的提升该装置的适用性。
技术领域
本实用新型属于机械研磨技术领域,具体是涉及一种用于研磨装置的研磨头。
背景技术
机械研磨装置是一种为了实现全面平坦化与由用于形成电路的接触/布线膜分离以及高度集成的元件化而产生的晶元表面粗糙度的改善等而使用于对晶元的表面进行精细研磨加工的装置,所述全面平坦化是清除在半导体元件制造过程中反复进行掩蔽、刻蚀及布线工艺等的同时生成的晶元表面的凹凸而导致的单元区域与周围电路区域间的高度差。
但是,由于现有的研磨头在长时间的使用下会发生一定程度的磨损,如果不对研磨头进行更换的话,会使得研磨出来的物品有所瑕疵,降低工作效率,进而影响产品的质量,同时现有的研磨头和研磨座之间的距离是固定的,使得该研磨装置只能研磨相同大小的物品,不能对其他大小的物品进行研磨,该研磨头不适用与现在对研磨头多功能的要求。
发明内容
本实用新型主要是解决上述现有技术所存在的技术问题,提供一种用于研磨装置的研磨头。
本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:一种用于研磨装置的研磨头,包括研磨机主体、研磨座和底座,所述研磨机主体的底部设置有研磨座,所述研磨座的底部设置有底座,所述底座顶面靠近正面和背面边缘处均焊接有限位块,所述限位块的中心处转动连接有螺杆,所述螺杆的外表壁对称套设有两个套筒,所述套筒的顶部均铰接有连接杆,所述连接杆的顶部焊接有滑块。
作为优选,所述研磨座底面四个拐角处均焊接有伸缩杆,所述伸缩杆的底部与底座相焊接,所述伸缩杆的外表壁套设有第一复位弹簧。
作为优选,所述底座顶面靠近一侧边缘的中心处焊接有挡块,所述挡块的中心处转动连接有蜗杆,所述蜗杆靠近底座边缘处焊接有转把,所述蜗杆与转把相背端外表壁啮合连接有圆形齿轮,所述圆形齿轮的中心处焊接有横杆,所述横杆的两端均贯穿限位块焊接有圆锥齿轮,所述圆锥齿轮的外表壁啮合连接有涡旋齿轮。
作为优选,所述研磨机主体底部贯穿有研磨杆,所述研磨杆的中心处焊接有研磨头。
作为优选,所述研磨机主体底部靠近研磨杆的一侧焊接有夹持箱体,所述夹持箱体正面和背面中心处均滑动嵌设有支杆,所述支杆靠近夹持箱体内壁的一端焊接有夹持块,所述夹持块与支杆相背端焊接有防滑垫,所述支杆的外表壁套设有第二复位弹簧。
作为优选,所述支杆靠近夹持箱体外表壁的一端贯穿有撑杆,所述撑杆的外表壁焊接有椭圆转盘,所述椭圆转盘与夹持箱体相背端焊接有拉环,所述椭圆转盘的外表壁啮合连接有锯齿板。
本实用新型具有的有益效果:首先,通过转动底座的转把来带动连接杆运动,进而带动研磨座运动,以此来调整研磨座的位置,进而来调整研磨座和研磨头之间的间距,来使得该研磨装置可以适用与不同大小的物品,可以进一步的提升该装置的适用性,同时通过转动转盘来使得夹持块运动,直至夹持块内壁的防滑垫与研磨杆相脱离,再对研磨头进行更换即可,该操作方式更加的简便,可以确保研磨头的完整性,进一步的可以确保研磨出来的产品的质量,可以进一步的提高工作效率。
附图说明
图1是本实用新型的一种用于研磨装置的研磨头的正视结构示意图;
图2是本实用新型的一种用于研磨装置的研磨头的侧视结构示意图;
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