[实用新型]电磁阀及电磁阀组件有效

专利信息
申请号: 201920872343.5 申请日: 2019-06-11
公开(公告)号: CN210566265U 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 杭州三花研究院有限公司
主分类号: F16K1/00 分类号: F16K1/00;F16K1/36;F16K31/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电磁阀 组件
【权利要求书】:

1.一种电磁阀,包括阀支撑座、铁芯组件、阀组件以及线圈组件,所述铁芯组件包括静铁芯、动铁芯和套管,所述线圈组件套设于所述套管外周,至少部分所述铁芯组件位于所述套管内;所述阀支撑座包括第一安装部,至少部分所述阀组件位于所述第一安装部所形成的腔,所述阀组件与所述第一安装部固定连接,所述电磁阀还包括第一腔,形成所述第一腔的壁至少包括所述阀支撑座的内壁,所述阀支撑座包括连接部和连通部,所述连通部比所述连接部远离所述线圈组件,所述连通部包括第一通道、第二通道以及第一阀口,所述第一通道与所述第一腔连通,所述第一通道的第一开口成形于所述连通部的外壁,所述第二通道能够通过所述第一阀口与所述第一腔连通;所述连接部能够使所述电磁阀与安装台可拆卸连接;所述电磁阀还包括第一凹槽,所述第一凹槽沿所述阀支撑座的侧壁周向设置,沿所述第一安装部的轴线方向,所述第一凹槽比所述连通部靠近所述线圈组件设置,所述电磁阀还包括第一密封件,至少部分所述第一密封件位于所述第一凹槽;

所述电磁阀还包括第二凹槽,所述第二凹槽成形于所述连通部的外壁,沿所述连通部的外壁成周向设置,沿所述第一安装部的轴线方向,所述第二凹槽比所述第一通道的第一开口远离所述线圈组件,所述电磁阀还包括第二密封件,至少部分所述第二密封件位于所述第二凹槽。

2.根据权利要求1所述的电磁阀,其特征在于,沿所述第一安装部的轴线方向,所述第一凹槽位于所述连接部和所述连通部之间,所述第一凹槽相对所述连接部凹陷;所述第一凹槽包括第一底壁和第一上侧壁,所述第一上侧壁连接所述第一底壁和所述连接部,所述第一密封件环绕所述第一底壁设置;或者,所述第一凹槽还包括第一下侧壁,所述第一上侧壁连接所述第一底壁和所述连接部,所述第一密封件围绕所述第一底壁设置,至少部分所述第一上侧壁与所述第一下侧壁相对设置。

3.根据权利要求1或2所述的电磁阀,其特征在于,所述阀支撑座还包括支撑部,沿第一安装部的轴线方向,所述支撑部比所述连接部靠近所述线圈组件,所述第一凹槽位于所述支撑部和所述连接部之间,所述第一凹槽相对所述连接部凹陷,所述第一凹槽相对所述支撑部的侧壁凹陷;所述第一凹槽具有第一上侧壁、第一底壁和第一下侧壁,所述第一下侧壁连接所述第一底壁和所述连接部,所述第一密封件环绕所述第一底壁设置,至少部分所述第一上侧壁与所述第一下侧壁相对设置;或者,所述支撑部的外径大于所述连接部的外径,所述第一凹槽成形于所述支撑部,所述第一凹槽相对所述支撑部的下端面凹陷。

4.根据权利要求1或2所述的电磁阀,其特征在于,所述第二凹槽位于所述第一通道的第一开口和所述连通部的底部的下壁之间,所述第二凹槽相对所述连通部的侧壁凹陷,所述第二凹槽包括第二上侧壁和第二底壁,所述第二底壁连接所述第二上侧壁和所述连通部的底部的下壁,所述第二密封件环绕所述第二底壁设置;或者,所述第二凹槽还包括第二下侧壁,至少部分所述第二上侧壁与所述第二下侧壁相对设置。

5.根据权利要求3所述的电磁阀,其特征在于,所述第二凹槽位于所述第一通道的第一开口和所述连通部的底部的下壁之间,所述第二凹槽相对所述连通部的侧壁凹陷,所述第二凹槽包括第二上侧壁和第二底壁,所述第二底壁连接所述第二上侧壁和所述连通部的底部的下壁,所述第二密封件环绕所述第二底壁设置;或者,所述第二凹槽还包括第二下侧壁,至少部分所述第二上侧壁与所述第二下侧壁相对设置。

6.根据权利要求1或2或5所述的电磁阀,其特征在于,所述阀组件还包括活塞组件以及弹性元件,定义所述弹性元件与所述活塞组件相抵接的一端为上端部,定义所述弹性元件与所述连通部的底部的上壁相抵接的一端为下端部,所述弹性元件的上端部与所述活塞组件相抵接,所述弹性元件的下端部与所述连通部的底部的上壁抵接;

所述活塞组件包括第一配合部、第一腰部和第一凸起部,所述第一配合部比所述第一凸起部靠近所述线圈组件设置,所述第一腰部位于所述第一配合部和所述第一凸起部之间,所述第一配合部的外径大于所述第一腰部的外径,所述第一凸起部相对所述第一腰部凸起,所述弹性元件的上端部位于所述第一腰部的周侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州三花研究院有限公司,未经杭州三花研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920872343.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top