[实用新型]用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装

说明书

本实用新型提供的一种用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装，涉及锗单晶生长技术领域，包括：坩埚套；至少两个支撑杆；支撑杆的一端通过伸缩结构安装在坩埚套的外部，以能够沿着支撑杆的长度方向相对于坩埚套伸缩。基于上述技术方案，随着锗单晶的生长悬浮坩埚内腔的熔体会减少，由于支撑架与外坩埚的内侧壁相抵接但不连接，所以悬浮坩埚能够继续通过浮力作用而悬浮在熔体中，并随着熔体的减少悬浮坩埚也会随之下降，从而使外坩埚内的熔体通过悬浮坩埚上的通孔补入至悬浮坩埚的内腔中，保证悬浮坩埚内的熔体深度稳定，使悬浮坩埚内部热场不发生变化，保证锗单晶的生长环境稳定，能够良好的生长。

技术领域

本实用新型涉及锗单晶生长技术领域，尤其是涉及一种用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装。

背景技术

悬浮坩埚在生长太阳能锗单晶中起到重要作用，而悬浮坩埚需要处理的重要问题是如何使坩埚很好的悬浮于熔体中，同时处于外坩埚的中心位置。

现有技术中，悬浮坩埚一般会利用配合的支架装配在外坩埚内腔的中心位置，以在外坩埚内腔的中心位置进行锗单晶的生长。但是，虽然悬浮坩埚可以通过现有的支架处于外坩埚内腔的中心位置，锗单晶的生长效果仍然不理想。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装，以解决现有技术中存在的锗单晶生长效果较差的技术问题。

经过对现有技术中悬浮坩埚使用的支架进行研究后，发现现有采用的支架是固定支架，固定支架在与悬浮坩埚装配使用时，是将悬浮坩埚固定在外坩埚的内腔中，由于悬浮坩埚与外坩埚之间固定设置，会使得悬浮坩埚中的熔体深度随着拉晶过程逐渐降低，进而使得悬浮坩埚内部热场发生变化，影响锗单晶的生长。

而为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下技术方案。

本实用新型提供的一种用于悬浮坩埚的调节支架，包括：

坩埚套；

至少两个支撑杆；

伸缩结构，所述支撑杆的一端通过所述伸缩结构安装在所述坩埚套的外部，以能够沿着所述支撑杆的长度方向相对于所述坩埚套伸缩。

进一步的，所述坩埚套的内侧壁的底部一周开设有用于与悬浮坩埚嵌套的凹槽。

进一步的，所述坩埚套的外侧壁设置有螺纹孔，所述支撑杆的一端设置有与其配合的螺纹接头；所述螺纹接头与所述螺纹孔螺纹连接；

所述螺纹接头和所述螺纹孔构成所述伸缩结构。

进一步的，所述螺纹孔为通孔。

进一步的，所述支撑杆的材质为石墨；

和\或，所述坩埚套的材质为石墨。

进一步的，所述支撑杆的数量为4，4个所述支撑杆沿着所述坩埚套的外侧壁周向均布。

本实用新型还提供了一种坩埚套装，包括所述调节支架。

本实用新型还提供了一种坩埚套装，包括所述调节支架；还包括：

底部具有通孔的悬浮坩埚，所述坩埚套的凹槽嵌套至所述悬浮坩埚的坩埚口外沿；

外坩埚，所述悬浮坩埚和所述调节支架位于所述外坩埚的内腔；通过所述调节支架与所述外坩埚的内壁相抵接，以使所述悬浮坩埚处于所述内腔的中央位置。

进一步的，所述悬浮坩埚和所述坩埚套的横截面均为圆形；

所述悬浮坩埚的外径与所述坩埚套的外径之差在8mm至16mm之间；和/或，所述坩埚套的高度在48mm至60mm之间。

进一步的，所述外坩埚的横截面为圆形；所述坩埚套的外径与所述外坩埚的内径之比在1/3至2/3之间。