[实用新型]内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构有效

专利信息
申请号: 201920881152.5 申请日: 2019-06-12
公开(公告)号: CN210237767U 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 李峰;薛道荣;韩成明;李强;刘子毓 申请(专利权)人: 河北道荣新能源科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 李林
地址: 054000 河北省邢台*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 内腔式 磁控溅射 镀膜 装配式 结构
【权利要求书】:

1.一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室,所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材,其中:

所述固定套管的两端设有真空密封阀,并且设有贯通内外的抽气口与布气管;

所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接,相邻的靶材用绝缘条相互隔绝,数个靶材均连接有外部电源;

所述磁铁呈片状,在镀膜室的轴向上依次层叠,与各个靶材分别对应布置。

2.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:在连续镀膜室的一端连通有进管室,另一端连通有出管室,在进管室的外端以及在出管室的外端分别设有真空密封阀,使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别密封。

3.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:所述磁铁是永磁铁或电磁铁,其按照相同磁极方向镶嵌在固定套管内壁的凹槽位置。

4.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:相邻的靶材之间用挡板分隔开,挡板上开设有供镀膜管通过的穿孔。

5.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:所述真空密封阀是光阑可变阀。

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