[实用新型]内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构有效
申请号: | 201920881152.5 | 申请日: | 2019-06-12 |
公开(公告)号: | CN210237767U | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 李峰;薛道荣;韩成明;李强;刘子毓 | 申请(专利权)人: | 河北道荣新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 李林 |
地址: | 054000 河北省邢台*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 内腔式 磁控溅射 镀膜 装配式 结构 | ||
1.一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室,所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材,其中:
所述固定套管的两端设有真空密封阀,并且设有贯通内外的抽气口与布气管;
所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接,相邻的靶材用绝缘条相互隔绝,数个靶材均连接有外部电源;
所述磁铁呈片状,在镀膜室的轴向上依次层叠,与各个靶材分别对应布置。
2.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:在连续镀膜室的一端连通有进管室,另一端连通有出管室,在进管室的外端以及在出管室的外端分别设有真空密封阀,使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别密封。
3.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:所述磁铁是永磁铁或电磁铁,其按照相同磁极方向镶嵌在固定套管内壁的凹槽位置。
4.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:相邻的靶材之间用挡板分隔开,挡板上开设有供镀膜管通过的穿孔。
5.根据权利要求1所述的内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构,其特征在于:所述真空密封阀是光阑可变阀。
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