[实用新型]一种减少电极影的电容触摸屏

说明书

一种电容触摸屏，包括触控电路层，其由外到内依次包括消影层、第一导电层、绝缘层和第二导电层；触控电路层包括多个第一、二电极，第一、二电极相互交叉构成感应阵列，其交叉点将各个第一、二电极分别分为多个第一、二电极块；交叉点设有跳线部，其包括第一、二连接部，第一连接部、第一电极块和第二电极块由第一导电层图形化而成，第一连接部用于连接相邻的第一电极块以形成导电连续的对应第一电极；第二连接部由第二导电层图形化而成；绝缘层连续设置，其在跳线部处设有通孔，以使第二电极块与第二连接部通过通孔连接为第二电极；以及，消影层具有与第一导电层一致的折射率或等效折射率。

技术领域

本实用新型涉及一种电容触摸屏，尤其是一种减少电极影的电容触摸屏。

背景技术

电容触摸屏一般包括多个设置在透明基板上的感应电极，感应电极一般采用透明导电氧化物薄膜，如氧化铟锡(ITO)图形化(如蚀刻)而成，一般来说，透明导电氧化物薄膜具有较高的折射率，其外表面反射光要强于玻璃基板裸露表面的反射光，由此容易形成明显的电极影。电极影一般会影响电容触摸屏的外观，在强光环境下还会干扰到显示器(一般设在电容触摸屏后方)的显示。

发明内容

本实用新型的目的为提供一种减少电极影的电容触摸屏，其电极影能够有效地减少，所采用的技术方案如下：

一种电容触摸屏，至少设有一透明触控区，其特征为：

包括透明基板以及设置在透明基板第一面的触控电路层，所述触控电路层由外到内依次包括消影层、第一导电层、绝缘层和第二导电层，其中，至少所述消影层、第一导电层和绝缘层为透明膜层；

至少在所述透明触控区中，所述触控电路层包括多个第一电极和第二电极，第一电极与第二电极相互交叉构成感应阵列，其交叉点将各个第一电极和各个第二电极分别分为多个第一电极块和第二电极块；

所述交叉点设有跳线部，所述跳线部包括第一连接部和第二连接部，其中，所述第一连接部、第一电极块和第二电极块由第一导电层图形化而成，第一连接部用于连接相邻的第一电极块以形成导电连续的对应第一电极；

第二连接部由第二导电层图形化而成；

所述绝缘层连续地设置在整个所述透明触控区，其在跳线部处设有通孔，以使第二电极块与第二连接部通过通孔连接形成导电连续的对应第二电极；以及，

所述消影层具有与第一导电层一致的折射率或等效折射率。

上述透明基板可以为厚度0.2〜6mm的透明玻璃基板。上述第一导电层为透明导电层，具体地，其可以为氧化铟锡(ITO)、氧化锌铝(AZO)等透明导电氧化物薄膜，第二导电层可以为透明导电层或非透明导电层，具体地，其可以为金属薄膜或是另一层上述透明导电氧化物薄膜，所述金属薄膜可以为单层或多层的金属膜或合金膜，尤其是“钼铌-铝钕-钼铌”的三层合金膜，上述导电层一般可采用光刻等方式进行图形化，以形成所述第一、二电极块和第一、二连接部。所述触控电路层一般还包括设置在非透明触控区的周边引线、外接端以及外接线(如FPC外接线)，所述周边引线和外接端同样可由上述透明导电膜、金属薄膜或者另外设置的导电膜层图形化而成。

所述绝缘层可以由透明光敏树脂涂层经显影(即利用图形掩膜板曝光再进行显影)等工艺技术图形化而成，一般来说，其厚度可设定在0.5〜10μm的范围内，以保证较好的图形化效果。绝缘层连续地设置在整个所述透明触控区，一般可认为在透明触控区中，除了通孔等小面积孔洞之外，绝缘层为一连续、完整的涂层。所述通孔即由图形化工艺在绝缘层的涂层面上形成的孔洞，通孔一般仅需设置在第二电极块与第二连接部的交叠区域中，则可形成第二电极块与第二连接部的电连接；通孔可以为圆孔、方孔等多种形状的孔，其直径或尺寸可优选为10〜200μm(具体由第二连接部的端部宽度、绝缘层的厚度、图形化的工艺精度以及通孔的导电要求决定)，通孔的边缘一般也设计为坡面，以便于第二电极块或第二连接部更好地爬过其边缘。