[实用新型]电容并联走线结构

权利要求书

1.一种电容并联走线结构，其特征在于，包括第一走线和第二走线；

所述第一走线包括多个第一电容焊接区；

所述第二走线包括多个第二电容焊接区；

其中，各所述第一电容焊接区与各所述第二电容焊接区一一对应；所述第一电容焊接区用于连接电容器件的一端，对应的所述第二电容焊接区用于连接所述电容器件的另一端；各所述第一电容焊接区内走线的纹波电流相同，各所述第二电容焊接区内走线的纹波电流相同。

2.根据权利要求1所述的电容并联走线结构，其特征在于，还包括第一基板；所述第一走线和所述第二走线设置在所述第一基板的表面；

各所述第一电容焊接区依次排列；其中，任一第一电容焊接区内包括阻抗大于所述任一第一电容焊接区的前一所述第一电容焊接区内走线阻抗的走线；

各所述第二电容焊接区依次排列；其中，任一第二电容焊接区内包括阻抗大于所述任一第二电容焊接区的前一所述第二电容焊接区内走线阻抗的走线；

其中，所述第一电容焊接区内包括阻抗与对应的所述第二电容焊接区内走线阻抗相同的走线。

3.根据权利要求2所述的电容并联走线结构，其特征在于，任一第一电容焊接区内包括平均宽度大于所述任一第一电容焊接区的前一所述第一电容焊接区内走线的平均宽度的走线；

任一第二电容焊接区内包括平均宽度大于所述任一第二电容焊接区的前一所述第二电容焊接区内走线的平均宽度的走线；

其中，所述第一电容焊接区内包括平均宽度与对应的所述第二电容焊接区内走线的平均宽度相同的走线。

4.根据权利要求2所述的电容并联走线结构，其特征在于，任一第一电容焊接区内包括电阻率大于所述任一第一电容焊接区的前一所述第一电容焊接区内走线的电阻率的走线；

任一第二电容焊接区内包括电阻率大于所述任一第二电容焊接区的前一所述第二电容焊接区内走线的电阻率的走线；

其中，所述第一电容焊接区内包括电阻率与对应的所述第二电容焊接区内走线的电阻率相同的走线。

5.根据权利要求3所述的电容并联走线结构，其特征在于，任一第一电容焊接区内走线设置有面积大于所述任一第一电容焊接区的前一所述第一电容焊接区内走线的缺口面积的缺口；

任一第二电容焊接区内走线设置有面积大于所述任一第二电容焊接区的前一所述第二电容焊接区内走线的缺口面积的缺口；

其中，所述第一电容焊接区内走线设置有面积与对应的所述第二电容焊接区内走线的缺口面积相同的缺口。

6.根据权利要求5所述的电容并联走线结构，其特征在于，所述第一电容焊接区内走线设置的缺口与所述第二电容焊接区内走线设置的缺口均为三角形缺口或方形缺口。

7.根据权利要求1所述的电容并联走线结构，其特征在于，还包括第二基板和第三基板；所述第一走线设置在所述第二基板的表面，所述第二走线设置在所述第三基板的表面；

所述第一走线包括一个或多个第一开孔，各所述第一开孔中心的连线垂直于所述第一走线；所述第一电容焊接区包括相邻两所述第一开孔间的走线或所述第一开孔与第一走线边缘间的走线；其中，各所述相邻两所述第一开孔间的走线、各所述第一开孔与第一走线边缘间的走线阻抗相同；

所述第二走线包括一个或多个第二开孔，各所述第二开孔中心的连线垂直于所述第二走线；所述第二电容焊接区包括相邻两所述第二开孔间的走线或所述第二开孔与第二走线边缘间的走线；其中，各所述相邻两所述第二开孔间的走线、各所述第二开孔与第二走线边缘间的走线阻抗相同。

8.根据权利要求7所述的电容并联走线结构，其特征在于，各所述相邻两所述第一开孔间的走线以及各所述第一开孔与第一走线边缘间的走线大小形状相同；

各所述相邻两所述第二开孔间的走线以及各所述第二开孔与第二走线边缘间的走线大小形状相同。