[实用新型]一种适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置有效

专利信息
申请号: 201920912930.2 申请日: 2019-06-18
公开(公告)号: CN210014790U 公开(公告)日: 2020-02-04
发明(设计)人: 许明洋;石静 申请(专利权)人: 重庆四联测控技术有限公司
主分类号: G01D5/42 分类号: G01D5/42
代理公司: 31219 上海光华专利事务所(普通合伙) 代理人: 尹丽云
地址: 401121 重庆市渝北*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 镓铟锡合金 变送器 吸附法 隔离膜片 本实用新型 真空抽取口 下端 充灌装置 灌孔 腔体 容置
【权利要求书】:

1.一种适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,包括有变送器和充灌结构,所述充灌结构位于所述变送器的下端,且与所述变送器固定连接;

所述充灌结构内部设有一用于容置液态的镓铟锡合金介质的腔体;所述充灌结构还开设有一用于充灌液态的镓铟锡合金介质的介质充灌孔;

所述充灌结构的下端还固定连接有吸附法兰,在所述充灌结构与所述吸附法兰之间设置有一隔离膜片;

所述吸附法兰还开设有一真空抽取口,且所述隔离膜片与所述真空抽取口接触。

2.如权利要求1所述的适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,所述介质充灌孔开设于所述充灌结构的侧面,且所述介质充灌孔与所述用于容置镓铟锡合金介质的充灌腔体垂直。

3.如权利要求1所述的适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,在所述吸附法兰与所述充灌结构的连接处还设置有用于进行真空密封的密封圈。

4.如权利要求3所述的适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,所述吸附法兰的上端开设有凹槽,所述密封圈位于所述凹槽内。

5.如权利要求3或4所述的适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,所述密封圈为O型密封圈。

6.如权利要求1所述的适用于镓铟锡合金介质的变送器充灌装置,其特征在于,所述吸附法兰通过一对压紧单元与所述充灌结构进行固定;

所述压紧单元包括有压紧盘和压紧螺钉组件;

所述压紧盘固定设置在所述吸附法兰底部,所述压紧螺钉组件穿过所述充灌结构预先开设的通孔后与所述压紧盘固定连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆四联测控技术有限公司,未经重庆四联测控技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920912930.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top