[实用新型]一种薄片类介质处理装置

权利要求书

1.一种薄片类介质处理装置，其特征在于，包括：

第一机架和第二机架，所述第二机架通过枢接轴(4)枢接于所述第一机架，所述第二机架能相对所述第一机架打开或扣合；

定位机构(3)，所述定位机构(3)设置于所述第一机架和所述第二机架两者中的一个上，在所述第二机架相对所述第一机架扣合时，所述定位机构(3)沿所述枢接轴(4)轴向方向抵接于所述第一机架和所述第二机架两者中的另一个上。

2.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述定位机构(3)设置于所述第二机架，所述定位机构(3)包括活动件(32)和与所述活动件(32)连接的弹性件(31)，所述弹性件(31)被配置为使所述活动件(32)始终具有沿所述枢接轴(4)的轴向方向抵紧于所述第一机架的运动趋势。

3.根据权利要求2所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一机架沿所述枢接轴(4)轴向方向的端部设置有相互连通的容纳腔(21)和通孔(22)，所述弹性件(31)和所述活动件(32)均位于所述容纳腔(21)内，且所述活动件(32)的端部能伸出所述通孔(22)。

4.根据权利要求3所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述通孔(22)的孔径小于所述容纳腔(21)的口径；所述活动件(32)呈凸台状，所述活动件(32)包括依次设置的连接部(321)和接触部(322)，所述连接部(321)与所述弹性件(31)连接，所述接触部(322)能伸出所述通孔(22)。

5.根据权利要求4所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述接触部(322)远离所述连接部(321)的一侧设置为半球状。

6.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述定位机构(3)设置于所述第二机架，所述定位机构(3)包括弹性的活动件(32)，所述活动件(32)被配置为始终具有沿所述枢接轴(4)轴向方向抵紧于所述第一机架的运动趋势。

7.根据权利要求2-6任意一项所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第二机架沿所述枢接轴(4)的轴向方向的两端均设置有所述定位机构(3)，且两个所述定位机构(3)沿所述枢接轴(4)的轴向方向相对设置。

8.根据权利要求7所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一机架沿所述枢接轴(4)的轴向方向的两侧壁均设置有凹槽(11)，所述定位机构(3)与所述凹槽(11)一一对应设置，当所述第二机架相对于所述第一机架打开时，所述定位机构(3)的端部抵接于所述凹槽(11)内以支撑所述第二机架。

9.根据权利要求8所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述定位机构(3)和所述凹槽(11)均靠近所述枢接轴(4)设置。

10.根据权利要求1-6任意一项所述的薄片类介质处理装置，其特征在于，所述第一机架和所述第二机架两者中的一个上活动设置有锁杆(5)，所述第一机架和所述第二机架两者中的另一个上设置有卡槽(12)，在所述第二机架相对所述第一机架扣合时，所述锁杆(5)卡接于所述卡槽(12)内，以将所述第二机架的位置锁定。