[实用新型]一种用于制备铜粉的雾化装置有效
申请号: | 201920917720.2 | 申请日: | 2019-06-18 |
公开(公告)号: | CN210412538U | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 汤传舵;吴治国;汤传毛 | 申请(专利权)人: | 铜陵国传电子材料科技有限公司 |
主分类号: | B22F9/08 | 分类号: | B22F9/08 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 244000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 雾化 装置 | ||
本实用新型公开一种用于制备铜粉的雾化装置,包括雾化壳体、雾化腔室、介质循环机构、高压雾化机构、熔液流通机构,雾化壳体的底部设有放料阀,介质循环机构对称设置在雾化壳体漏斗状底部的两侧;高压雾化结构对称设于Z形安装段的顶部,穿过注入管与Z形安装段的第一螺杆将高压雾化机构与雾化壳体紧固;高压泵通过注液管与喷嘴管连接。本实用新型的雾化装置,高压雾化机构、熔液流通机构更加稳定,不会因为高压水柱的喷射使高压雾化机构产生剧烈晃动,不会因为熔液的大批量倒入使漏包坩埚发生剧烈晃动;击碎熔液形成的铜粉末粒径小,比表面积大,尺寸均匀,经过吸滤后含湿量小,降低了后续的干燥成本。
技术领域
本实用新型涉及金属粉末制备设备领域,具体涉及一种用于制备铜粉的雾化装置。
背景技术
现有技术中关于导电铜粉制备方法的报道较多,一般工序是将铜块在熔化温度以上熔炼,高压水柱的击碎雾化,再经真空过滤、惰性气氛球磨得到目标粒度的粗粉,随后进行筛分、表面抛光和表面改性。其中,雾化操作尤为关键,不仅要控制雾化装置含氧量,还要控制高压水柱的压力和冲击力,使得击碎生成的铜粉液滴具有良好的球形度和稳定的尺寸。
申请号201510049048.6的专利公开了一种制备金属及合金粉末用的气雾化装置,包括用以储存冷却介质的雾化塔容器,雾化塔容器顶板开口上方设置有气枪组件,气枪组件包含底部具有漏嘴的漏包坩埚,漏嘴外围设置有气枪组件的环缝喷嘴。虽然该装置能够有效防止雾化过程中的鼓泡和反溅现象,但是仍然存在以下问题:1)将气枪组件设置在雾化塔容器上,漏包坩埚设置在气枪组件之间,没有通过固定机构进行固定,气枪喷射水柱和熔液倾倒过程中产生的高压力和高质量会使得气枪组件和漏包坩埚发生晃动,影响雾化铜粉的均匀性和尺寸稳定性;2)环缝喷嘴仅具有一个喷射口,喷射出的水柱粗且压力大,会使击碎熔液形成的铜粉末粒径粗,比表面积大,吸滤后含湿量高,增加了后续的干燥成本。
实用新型内容
为了解决上述的技术问题,本实用新型的目的在于提供一种用于制备铜粉的雾化装置,通过穿过注入管与Z形安装段的第一螺杆将高压雾化机构与雾化壳体紧固,穿过安装孔、注入腔顶壁的第二螺杆将漏包坩埚与高压雾化结构紧固,使得熔液倾倒雾化过程中更加稳定,解决了气枪组件和漏包坩埚容易发生晃动的问题;
通过设置弯折状或直线状的多个喷嘴管,喷射出多个细小的高压水柱,对铜粉的击碎更加均匀细小,解决了漏包稳定性差,容易发生晃动,且从喷嘴喷出的水柱较粗,击碎熔液形成的铜粉末粒径粗,比表面积大的问题。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现:
一种用于制备铜粉的雾化装置,包括雾化壳体、雾化腔室、介质循环机构、高压雾化机构、熔液流通机构,所述雾化壳体的底部设有放料阀,介质循环机构对称设置在雾化壳体漏斗状底部的两侧,包括伺服电机、安装壳体、联轴器、转轴、旋转叶片,安装壳体贯穿雾化壳体且两端分别延伸至雾化壳体外部和雾化腔室内部,伺服电机设置在安装壳体延伸至雾化壳体外部的一端,且与设置在安装壳体内腔的联轴器、转轴依次同轴连接,转轴与旋转叶片连接,旋转叶片置于雾化腔室内;
所述雾化壳体的顶部对称设置有两个Z形安装段,两个Z形安装段之间设有弧形缺口,弧形缺口的直径从上至下逐渐增大;
所述高压雾化结构对称设于Z形安装段的顶部,包括高压泵、注入管、注入腔、喷嘴管,穿过注入管与Z形安装段的第一螺杆将高压雾化机构与雾化壳体紧固;高压泵通过注液管与喷嘴管连接;
所述熔液流通机构包括:漏包坩埚、漏嘴,漏包坩埚呈倒置的圆台状,穿过安装孔、注入腔顶壁的第二螺杆将漏包坩埚与高压雾化结构紧固。
作为本实用新型进一步的方案,所述雾化壳体的竖剖面呈漏斗状,雾化腔室设于雾化壳体内且雾化腔室内盛装有冷却介质;雾化腔室的内壁设有水位传感器。
作为本实用新型进一步的方案,所述雾化壳体的一侧设有进气口,进气口连接有伸入冷却介质内部的进气管,雾化壳体的另一侧设有排气口。
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