[实用新型]一种便于控温的真空镀膜设备有效
申请号: | 201920920896.3 | 申请日: | 2019-06-19 |
公开(公告)号: | CN210367895U | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 谢得军 | 申请(专利权)人: | 道和信实业(天津)有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 301800 天津市宝*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 真空镀膜 设备 | ||
本实用新型公开了一种便于控温的真空镀膜设备,包括底板,所述底板顶端一侧活动设置有框体,所述框体内部一侧下端通过安装座固定安装有水泵,所述水泵的输出端活动设置有进水管,所述框体顶端活动设置有设备框,所述设备框内部底端活动设置有安装架。本实用新型通过在设备框外部安装有温控层,通过温度器观察设备框内部的温度变化,当温度过低时通过控制面板打开热水框底端的电磁阀同时再启动水泵,把热水送进温控层内部在从出水管排出以此循环对设备框内部进行加热,当通过温度器发现设备框内部的温度过高时打开冷水框底端的电磁阀打开同时再启动水泵把冷水送进温控层内部通过冷水把设备框内部的热量带走进行降温,这样既操作简单也降低了成本。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体为一种便于控温的真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种;
传统的一种便于控温的真空镀膜设备存在以下不足;
目前,在很多的技术领域都会用到真空镀膜的设备,而现有的真空镀膜的设备中部都会用到控制温度的设备,而现有的设备不仅操作上非常繁杂而且成本还会很高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种便于控温的真空镀膜设备,以解决上述在很多的技术领域都会用到真空镀膜的设备,而现有的真空镀膜的设备中部都会用到控制温度的设备,而现有的设备不仅操作上非常繁杂而且成本还会很高的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种便于控温的真空镀膜设备,包括底板,所述底板顶端一侧活动设置有框体,所述框体内部一侧下端通过安装座固定安装有水泵,所述水泵的输出端活动设置有进水管,所述框体顶端活动设置有设备框,所述设备框内部底端活动设置有安装架,所述安装架上活动设置有若干安装头,所述安装头两侧均活动设置有放置板,所述设备框外部均活动设置有温控层,所述进水管在远离水泵的一端与温控层一侧下端活动对接,所述温控层另一侧上端活动设置有出水管,所述框体外部一侧中上端活动设置有控制面板,所述设备框内部一侧上端活动设置有温度器,所述底板顶端另一侧两端分别活动设置有热水框和冷水框,所述热水框、冷水框底端均通过电磁阀活动设置有水管,所述水管在远离热水框和冷水框的一端均与水泵的输进端活动对接,所述水泵、电磁阀、温度器均通过导线有控制面板电性连接。
优选的,所述放置板顶端均开设有凹口。
优选的,所述热水框和冷水框顶端一侧均活动设置有水头,所述热水框和冷水框与电磁阀的连接处均通过防水处理。
优选的,所述温控层、框体、设备框、底板均采用合金材质制成。
优选的,所述温控层内部四周均呈螺旋状。
优选的,所述安装架顶端活动设置有拉环。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型通过在设备框外部安装有温控层,通过温度器观察设备框内部的温度变化,当温度过低时通过控制面板打开热水框底端的电磁阀同时再启动水泵,把热水送进温控层内部在从出水管排出以此循环对设备框内部进行加热,当通过温度器发现设备框内部的温度过高时打开冷水框底端的电磁阀打开同时再启动水泵把冷水送进温控层内部通过冷水把设备框内部的热量带走进行降温,这样既操作简单也降低了成本;
2、本实用新型同时还在安装架外部均通过安装头活动安装有若干放置板,且放置板顶端均开设有凹口,这样便于提高安装物品的稳定性,且还在设备框一侧上端活动安装有温度器,这样便于观察设备框内部的温度变化。
附图说明
图1为本实用新型一种便于控温的真空镀膜设备整体结构示意图;
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