[实用新型]用于晶片抛光后的存储装置

权利要求书

1.一种用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，包括：

槽体，所述槽体包括：

内槽体，所述内槽体内填充有清洗液；

外槽体，所述外槽体设在所述内槽体外围，并且所述外槽体和所述内槽体之间形成溢流空间，所述外槽体底部设有清洗液出口；

晶片承载组件，所述晶片承载组件上设有晶片，所述晶片承载组件可移动地从所述内槽体上端浸入到所述清洗液中；

循环泵，所述循环泵分别与所述清洗液出口和内槽体相连；

震动组件，所述震动组件设在所述内槽体上。

2.根据权利要求1所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，所述晶片承载组件为晶片花篮，所述晶片花篮内设有多个所述晶片。

3.根据权利要求1所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，所述震动组件为兆声装置，所述兆声组件设在所述内槽体底部的外侧。

4.根据权利要求1所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，所述震动组件为气泡分散盘，所述气泡分散盘设在所述内槽体内的底部。

5.根据权利要求4所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，所述气泡分散盘包括：

气泡分散盘本体，所述气泡分散盘本体限定出鼓泡空间，所述气泡分散盘本体的上表面形成贯通的开孔；

气体供给组件，所述气体供给组件与所述鼓泡空间连通。

6.根据权利要求3或4所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，进一步包括：过滤器，所述过滤器分别与所述循环泵和所述内槽体相连。

7.根据权利要求3或4所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，进一步包括：

清洗液存储装置，所述清洗液存储装置与所述内槽体相连；

浓度分析仪，所述浓度分析仪与所述内槽体相连；

控制组件，所述控制组件分别与所述清洗液存储装置和所述浓度分析仪相连，所述控制组件基于所述浓度分析仪的显示，调整所述清洗液供给装置内清洗液的流量。

8.根据权利要求3或4所述的用于晶片抛光后的存储装置，其特征在于，所述内槽体为金属槽、石英槽或玻璃槽。