[实用新型]化学机械研磨设备

权利要求书

1.一种化学机械研磨设备，其特征在于，所述设备包括：

研磨头，用于固定晶圆；

研磨台，与所述研磨头面向设置，以及所述研磨台靠近所述研磨头的一侧固定有研磨垫，所述研磨台用于带动所述研磨垫旋转以研磨固定在所述研磨头上的晶圆；

研磨液供给装置，用于向所述研磨垫提供研磨液；

研磨液反弹板，设置在所述研磨台的外侧，用于在所述研磨台带动所述研磨垫旋转以研磨晶圆的过程中，将所述研磨垫甩出的研磨液反弹回所述研磨垫上。

2.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述化学机械研磨设备还包括研磨垫修整器，用于修整所述研磨垫表面；

所述研磨垫修整器包括驱动器、移动轴和修整盘，所述驱动器设置于所述研磨台外侧，与所述移动轴的一端连接，用于驱动所述移动轴移动；所述移动轴的另一端延伸至所述研磨台上方；所述修整盘设置在所述移动轴的另一端，并且，所述修整盘与所述研磨垫表面接触，用于修整所述研磨垫。

3.如权利要求2所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨液反弹板位于所述驱动器和所述研磨台之间；

以及，所述研磨液反弹板包括并排连接的第一子反弹板和第二子反弹板，所述第一子反弹板的高度高于所述第二子反弹板的高度；

其中，所述移动轴在所述第二子反弹板的上方往复移动。

4.如权利要求3所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述第一子反弹板和所述第二子反弹板的高度差介于3～5厘米之间。

5.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨液反弹板可升降设置于所述研磨台的外侧。

6.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨液反弹板与所述研磨台之间的距离介于3～5毫米之间。

7.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨台为圆柱体，所述研磨液反弹板为圆弧体或圆环体。

8.如权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨液反弹板包括聚氯乙烯板。