[实用新型]一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置

权利要求书

1.一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置，其特征在于：包括机架(1)，所述机架(1)的一侧底部设有收卷轴(2)，所述机架(1)的一侧上部固定有集束框架(3)，所述集束框架(3)上设有集束板(4)，所述集束板(4)上设有多个并排设置的定位通孔(5)，所述机架(1)上设有下传送辊(6)，所述下传送辊(6)的上方设有上传送辊(7)，所述上传送辊(7)经支架(8)固定在机架(1)上，所述支架(8)上滑动设有定位块(9)，所述上传送辊(7)的端部经轴承与定位块(9)连接，所述支架(8)上设有竖直向下的液压伸缩杆(10)，所述液压伸缩杆(10)顶端与定位块(9)连接，所述机架(1)上还设有多个导向辊(11)，所述收卷轴(2)的两端经螺栓固定有挡板(12)。

2.根据权利要求1所述的一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置，其特征在于，所述集束框架(3)的两端经固定机构固定在机架(1)上，所述固定机构包括设置在机架(1)的定位板(13)，所述定位板(13)上设有一组水平且平行的限位滑杆(14)，所述集束框架(3)的边框上设有与限位滑杆(14)配合的滑孔，所述定位板(13)上还设有调节丝杠(15)，所述集束框架(3)的边框上设有与调节丝杠(15)配合的螺孔。

3.根据权利要求2所述的一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置，其特征在于，所述调节丝杠(15)的外端部设有调节把手(16)。

4.根据权利要求1所述的一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置，其特征在于，所述下传送辊(6)和上传送辊(7)的辊面上均设有橡胶层。

5.根据权利要求1所述的一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置，其特征在于，所述定位通孔(5)呈上下交替设置在集束框架(3)上。

6.根据权利要求1所述的一种纳米银离子抗菌涤纶面料的织造装置，其特征在于，所述定位通孔(5)的内壁上设有防磨层，所述防磨层是硅胶层。