[实用新型]一种动态绝缘配合的升压电离装置有效
申请号: | 201920936248.7 | 申请日: | 2019-06-20 |
公开(公告)号: | CN209994107U | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 王嬿蕾;李继强;周勇军;王巨丰;闫仁宝;张奇星;彭斐;庞智毅;黄萍;徐宇恒;杨倩颖;李心如;张清河;王国锋;黄上师;段小嬿 | 申请(专利权)人: | 王嬿蕾 |
主分类号: | H02H9/08 | 分类号: | H02H9/08;H02H9/04 |
代理公司: | 45129 南宁智卓专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 邓世江 |
地址: | 530000 广西壮族自治区*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 预电离电极 闭环磁芯 变压器 本实用新型 输出端连接 升压 放电电压 绝缘配合 灭弧通道 电离 闪络 绝缘 绝缘子 升压变压器 电弧路径 电离装置 方向相反 击穿放电 线圈绕法 相间设置 自由电子 输出端 放电 灭弧 缠绕 环绕 | ||
本实用新型公开了一种动态绝缘配合的升压电离装置,属于升压电离技术领域,包括闭环磁芯、两个线圈、两个变压器和两个预电离电极,两个线圈分别缠绕在闭环磁芯的两侧,升压变压器3的线圈绕法不同或者闭环磁芯1上的线圈2环绕的方向相反,两个变压器3的输出端均与两个线圈的输出端连接,两个预电离电极分别与两个变压器的输出端连接,两个预电离电极相间设置。本实用新型可以改变固定绝缘配合比,确保在正常工作时不降低原有线路的绝缘强度和耐雷水平。有雷时,通过电离放电增加间隙自由电子,降低间隙的绝缘强度,使间隙的放电电压低于绝缘子(串)的放电电压,间隙优先击穿放电,确保闪络时间提前和电弧路径处于灭弧通道,解决了在灭弧通道之外的地方闪络导致灭弧失效的难题。
技术领域
本实用新型涉及升压电离技术领域,尤其涉及一种动态绝缘配合的升压电离装置。
背景技术
雷击会给电力设施带来不同形式的损伤和破坏,雷云放电在电力系统中会引起雷击过电压,分为直接雷击过电压和感应雷击过电压。雷击过电压可能对绝缘子、输电线造成损伤;输电线路发生雷击时引起的冲击闪络,导致线路绝缘子闪络,继而产生很大的工频续流,损坏绝缘子串及金具,导致线路事故;雷电击打在输电线或避雷线上,可能会引起断股甚至断裂,使输电工作无法进行。
现有的架空输配电线路雷电防护体系是“阻塞型”防雷模式为主,主要措施为架设避雷线和耦合地线、降低杆塔接地电阻、增强线路绝缘和安装线路避雷器等,其主要目的为限制雷击过电压,减少雷击跳闸。但是由于“阻塞型”防雷模式受到其有效性、安全性以及经济性的制约,仅能防护单次的弱雷击,对巨大雷击和多重雷击防护存在巨大空白,使雷击跳闸率一直“居高不下”。
现有的“疏导型”防雷模式作为“阻塞型”防雷模式的补充,主要是在绝缘子(串)两端安装并联保护间隙,其结构简单、安装方便,但由于其没有灭弧功能模块,使系统中持续流入短路电流,只能依靠断路器切断短路电流,以“跳闸率换取事故率”,在一定程度上会使得雷击跳闸率有所提高,易造成线路巨大安全事故。同时因为短路电流的烧蚀作用,使得并联保护间隙绝缘配合失效,失去应用的功能。
基于“阻塞型”和“疏导型”防雷模式原理,在并联保护间隙的基础上研发了主动灭弧式并联间隙,通过固定金具并联安装于绝缘子(串)两端。当雷电过电压波袭来时,并联间隙的击穿电压低于绝缘子(串),前者优先击穿,形成冲击闪络通道的同时,利用雷电冲击脉冲触发主动灭弧式装置动作产生高速高压灭弧气体,作用于建弧通道,达到截断电弧并抑制后续工频续流的效果。
但主动式灭弧并联间隙的电场大多属极不均匀电场,其伏秒特性很陡,难以与被保护绝缘的伏秒特性取得良好的配合。在固定绝缘配合中,如果进一步减小固定的绝缘配合比,即缩短并联间隙的距离,并联间隙的静态击穿电压就会整定的过低,使主动式灭弧装置在内过电压,甚至在工作过电压下频繁动作。因此针对固定绝缘配合的问题,本实用新型在主动灭弧式并联间隙的基础上,增加一个电离装置,实现动态绝缘配合,确保在雷击时,将闪络通道控制在并联间隙(即灭弧通道),保护绝缘子(串)雷击绝缘不闪络,但又不至于在工频过电压和操作过电压下使间隙被击穿,造成误动作。这解决了伏秒特性凸起造成的绝缘配合存在无效区的难题。
电离装置可使保护范围扩大。即使雷击点在档距中央,电离放电控制间隙优先闪络,把杆塔零电位提前送达至档距中央,使导线在雷击时接地并形成完全负反射产生绕击电位钳位,通过提前放电引发相间等电位并传导到雷击点,消除相间闪络。当雷击档距中央避雷线时,电离放电可以使导线提前接地,释放到达杆塔的反击过电压,抑制雷击点电位的提升,阻断横向闪络,使绝缘配合范围由绝缘体扩大到全档距。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种动态绝缘配合的升压电离装置,以解决背景技术中所提到的技术问题。
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