[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的承载头，其特征在于，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，平衡架的中轴部可滑动地密封设置于连轴盘的中心通孔内并可以通过所述平衡架的底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜具有边缘皱壁和至少一个内皱壁，并且所述边缘皱壁及内皱壁中的至少一个被环状压盘夹紧至承载盘以形成可调压腔室，使得可以通过控制平衡架的竖直位置和可调压腔室的压力来调节施加于基板的压力。

2.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述边缘皱壁沿所述柔性膜的上表面向上竖直延伸，所述内皱壁沿所述柔性膜上表面向上延伸，并且所述边缘皱壁与所述内皱壁同心地设置。

3.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述边缘皱壁具有从其顶端朝径向内侧延伸的环状的第一水平延伸部并且所述第一水平延伸部在其端部具有环状的第一密封凸起，所述内皱壁具有从其顶端径向延伸的环状的第二水平延伸部并且所述第二水平延伸部在其端部具有环状的第二密封凸起。

4.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第一水平延伸部及其邻接部分被所述环状压盘的外缘部向上夹紧固定至所述承载盘的下表面。

5.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第二水平延伸部及其邻接部分被所述环状压盘的内缘部向上夹紧固定至所述承载盘的下表面。

6.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述环状压盘的表面有用于容置所述第一密封凸起的第一定位结构和/或用于容置所述第二密封凸起的第二定位结构。

7.如权利要求6所述的承载头，其特征在于，所述第一定位结构和/或第二定位结构为环状凹口或凹槽。

8.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第一水平延伸部和所述第二水平延伸部的长度不同。

9.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述第一密封凸起和所述第二密封凸起表面具有用于增强夹紧效果并且防止黏连的粗糙结构。

10.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述柔性膜除所述第一密封凸起和所述第二密封凸起以外的其他部分的表面设置有疏水性涂层。

11.如权利要求10所述的承载头，其特征在于，所述疏水性涂层为派瑞林C膜。

12.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述密封凸起的高度为所述水平延伸部的厚度的2至8倍。

13.一种化学机械抛光设备，其特征在于，所述化学机械抛光设备包括如权利要求1至12中任意一项所述的承载头。