[实用新型]一种用于化学机械抛光的承载头及化学机械抛光设备

权利要求书

1.一种用于化学机械抛光的承载头，其特征在于，包括连轴盘、平衡架、承载盘、柔性膜、环状压盘，所述平衡架的中轴部可滑动地设置于连轴盘的中心通孔内并通过其底盘部及翼缘部带动承载盘相对于连轴盘上下移动，所述柔性膜的一部分被环状压盘夹紧至承载盘下部以形成可调压腔室，所述平衡架的一部分由非金属材料制成。

2.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述中轴部由中轴芯和中轴套构成，所述中轴套具有用于与所述中轴芯结合的连接孔，所述中轴套的连接孔的内表面与所述中轴芯的外表面紧密固定结合使得可以经由所述中轴套带动所述平衡架运动。

3.如权利要求2所述的承载头，其特征在于，所述中轴套由金属材料制成。

4.如权利要求3所述的承载头，其特征在于，所述金属材料为相对磁导率小于等于奥氏体不锈钢的金属材料。

5.如权利要求4所述的承载头，其特征在于，所述金属材料为钛、钛合金、铝合金、镁合金或奥氏体不锈钢。

6.如权利要求1所述的承载头，其特征在于，所述非金属材料为PPS塑料、PEEK塑料、PET塑料、POM塑料、陶瓷材料或半导体材料中的至少一种材料。

7.如权利要求2所述的承载头，其特征在于，所述中轴套具有覆盖所述中轴芯的顶部。

8.如权利要求7所述的承载头，其特征在于，所述顶部的直径与所述中轴套的外径相同。

9.如权利要求7或8所述的承载头，其特征在于，所述顶部沿所述平衡架的旋转轴线竖直向上延伸。

10.如权利要求2所述的承载头，其特征在于，所述中轴芯的长径比为2至6。

11.如权利要求10所述的承载头，其特征在于，所述中轴芯的长径比为3至5。

12.如权利要求1至8中任一项所述的承载头，其特征在于，所述平衡架的中轴部具有沿其中心旋转轴线贯穿延伸的流体通道，以向所述承载头内输送流体。

13.一种化学机械抛光设备，其特征在于，所述化学机械抛光设备包括如权利要求1至8中任一项所述的承载头。