[实用新型]一种卷对卷化学水浴沉积系统及其覆膜装置

权利要求书

1.一种卷对卷化学水浴沉积系统的覆膜装置，用于光伏基底的覆膜；其特征在于，包括：辊轴、驱动件、纠偏机构及支架组件；所述辊轴的一端与所述驱动件传动连接，所述辊轴的另一端通过所述支架组件支撑；所述辊轴上设置有覆膜基材，所述光伏基底经过所述纠偏机构并沿所述辊轴传输。

2.根据权利要求1所述的一种卷对卷化学水浴沉积系统的覆膜装置，其特征在于，所述支架组件包括：支座、升降机构及导轨，所述支座的一端与所述导轨滑动连接，所述支座的另一端用于支撑所述辊轴；所述支座与所述升降机构传动连接，且所述升降机构带动所述支座升降。

3.根据权利要求1所述的一种卷对卷化学水浴沉积系统的覆膜装置，其特征在于，所述覆膜基材为聚四氟乙烯、聚乙烯、聚丙烯和聚对苯二甲酸乙二酯中的一种或多种复合材质。

4.一种卷对卷化学水浴沉积系统，其特征在于，包括放卷装置、沉积装置、收卷装置及权利要求1-3任一项所述的卷对卷化学水浴沉积系统的覆膜装置；

所述放卷装置、所述沉积装置、所述覆膜装置及所述收卷装置依次传动相连；由所述放卷装置释放的所述光伏基底依次经过所述沉积装置及所述覆膜装置，并收卷于所述收卷装置。

5.根据权利要求4所述的一种卷对卷化学水浴沉积系统，其特征在于，所述光伏基底的传输速度为0.5m/Min至5m/Min。

6.根据权利要求4所述的卷对卷化学水浴沉积系统，其特征在于，所述沉积装置包括依次相连通的主反应区、清洗区及烘干区。

7.根据权利要求6所述的卷对卷化学水浴沉积系统，其特征在于，所述主反应区包括水浴反应室，所述水浴反应室内设置有若干传输辊，所述放卷装置通过所述传输辊与所述覆膜装置传动连接。

8.根据权利要求7所述的卷对卷化学水浴沉积系统，其特征在于，所述清洗区及所述烘干区内设置有与所述传输辊传动连接的滚轴组件，所述传输辊通过所述滚轴组件与所述覆膜装置传动连接，所述覆膜装置与所述放卷装置传动连接。

9.根据权利要求6所述的卷对卷化学水浴沉积系统，其特征在于，所述主反应区的沉积温度为60-80℃。