[实用新型]低温等离子设备

权利要求书

1.一种低温等离子设备，其特征在于：包括雾化室、沉降池、沉淀池、冷凝室、过滤池、等离子室，所述雾化室的一侧设置有进气管路、另一侧设置有排气管路；所述雾化室的顶部设置有进液管路，该进液管路与雾化室外的进液水泵相连接；所述进液管路上均匀连接有若干根喷雾管路，该喷雾管路上开设有喷雾孔；所述雾化室的底部设置有排液口，且雾化室的下部设置有位于排液口上方的过滤板；所述沉降池的顶部与排液口相连通，且沉降池的上部连接有助剂管路、下部设置有与沉淀池相连接的污浊管；所述沉淀池的底部设置有一个沉淀物输送管、多个V型槽，该V型槽的底部设置有沉淀物出口；多个V型槽的沉淀物出口均与沉淀物输送管连通，且沉淀物输送管的一端穿过沉淀池连通有干化池；所述沉淀池上部的进口与污浊管相连通、沉淀池上部的出口连接有出气管路，沉淀池的进口与沉淀池的出口相对设置；所述冷凝室的顶部与排气管路相连通，冷凝室内设置有冷凝管；所述冷凝管的一端向冷凝室外延伸为冷却水进口，冷凝管的另一端向冷凝室外延伸为冷却水出口；所述过滤池内设置有过滤液，该过滤液的上方位置设置有过滤网；所述冷凝室的底部通过过滤管路与过滤池相连接，该过滤管路穿过过滤网伸入过滤液中；所述过滤池通过等离子管路与等离子室相连接，且等离子管路位于过滤网上方位置；所述等离子室内设置有等离子发生器，且等离子室的一侧与等离子管路相连通、另一侧连通有净化管路；所述沉淀池的进口高度高于沉淀池的出口高度，所述沉淀池的进口处设置有第一挡板、沉淀池的出口处设置有第二挡板；所述第一挡板的下边沿的高度低于沉淀池的进口高度，所述第二挡板的下边沿的高度低于沉淀池的出口高度。

2.根据权利要求1所述的一种低温等离子设备，其特征在于：所述出气管路与排气管路相连通，且出气管路上设置有过滤器与第一单向阀。

3.根据权利要求1所述的一种低温等离子设备，其特征在于：所述沉淀池与干化池之间的沉淀物输送管上设置有第二单向阀与排污泵。

4.根据权利要求1所述的一种低温等离子设备，其特征在于：所述污浊管上设置有第三单向阀。