[实用新型]一种双面真空磁控溅射绕卷镀膜装置有效
| 申请号： | 201920960186.3 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN210151213U | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 刘冬;李曼;杨延远;孟红军;侯红明;韩照亮 | 申请（专利权）人： | 山东天厚新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 274000 山东省菏泽市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双面 真空 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
1.一种双面真空磁控溅射绕卷镀膜装置，包括机台(1)、第一磁控溅射装置(6)和第二磁控溅射装置(7)，其特征在于：所述机台(1)侧面的两端分别设有基材盘绕架(2)和收卷架(15)，所述机台(1)的顶端设有进料槽(5)，所述进料槽(5)的中间位置开设有中空的中部镀膜空隙(13)，所述第一磁控溅射装置(6)设置于所述中部镀膜空隙(13)的顶端，所述第二磁控溅射装置(7)设置于所述中部镀膜空隙(13)，且所述第一磁控溅射装置(6)与第二磁控溅射装置(7)呈相对布置，所述第一磁控溅射装置(6)与第二磁控溅射装置(7)均由导电板(8)和靶材板(12)构成，所述导电板(8)的外侧面设有接线柱(10)，所述导电板(8)的内部具有若干呈均匀间隔排列的磁极端(11)，所述靶材板(12)设置于所述导电板(8)的内侧面，所述靶材板(12)侧面的两端均设有挡板(9)，所述挡板(9)与所述机台(1)固定连接。
2.根据权利要求1所述的双面真空磁控溅射绕卷镀膜装置，其特征在于：所述基材盘绕架(2)包括盘绕辊轴(3)和弯曲辊轴(4)，所述弯曲辊轴(4)设置于所述盘绕辊轴(3)顶端一侧，且所述弯曲辊轴(4)的顶端与所述机台(1)的进料槽(5)高度齐平。
3.根据权利要求1所述的双面真空磁控溅射绕卷镀膜装置，其特征在于：所述收卷架(15)由支架(17)、底座(18)、电动机(20)和导向辊轴(21)构成，所述底座(18)设置于所述支架(17)底部，所述底座(18)与所述机台(1)固定连接，所述支架(17)的顶部安装有电动机(20)，所述电动机(20)的输出轴一端固定有收卷筒(19)，所述导向辊轴(21)设置于所述收卷筒(19)的顶端一侧。
4.根据权利要求1所述的双面真空磁控溅射绕卷镀膜装置，其特征在于：所述机台(1)底部的对角线位置设有对称的支撑脚垫(16)。
5.根据权利要求1所述的双面真空磁控溅射绕卷镀膜装置，其特征在于：所述机台(1)的顶端具有警示灯(14)。
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