[实用新型]一种抛光硅片鼓泡清洗装置

权利要求书

1.一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，包括氮气通入系统、纯水溢流系统和清洗系统，所述氮气通入系统包括氮气管路（1）、氮气调压阀（2）、氮气过滤器（3）、氮气电磁阀（4）和氮气流量计（5），所述纯水溢流系统包括纯水管路（6）和纯水溢流气动阀（7），所述清洗系统包括纯水喷淋（8）、清洗槽（9）、载物板（10）、和纯水溢流装置（11），所述纯水喷淋（8）设置在所述清洗槽（9）的正上方，清洗槽（9）内设置有所述载物板（10）和设置在载物板（10）的下方的所述纯水溢流装置（11），载物板（10）上开设有多个供氮气通过的透气孔（12）。

2.如权利要求1所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述氮气管路（1）和纯水管路（6）并联后进入纯水溢流管路（13），所述纯水溢流管路（13）穿过清洗槽（9）底部与纯水溢流装置（11）连接。

3.如权利要求2所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述氮气管路（1）、纯水管路（6）和纯水溢流管路（13）通过三通阀（14）连接。

4.如权利要求1所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述纯水溢流气动阀（7）安装在纯水管路（6）上。

5.如权利要求1所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述清洗槽（9）的底部设置有用于排放清洗槽（9）内纯水的两个排放管，所述排放管上安装有快速排放阀（15）。

6.如权利要求1所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述载物板（10）为方形板，载物板（10）的侧边固定在清洗槽（9）的内壁上，载物板（10）底部四角分别设置有支脚，所述支脚尾端通过螺栓固定在清洗槽（9）底部。

7.如权利要求1所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述氮气调压阀（2）、氮气过滤器（3）、氮气电磁阀（4）和氮气流量计（5）均安装在氮气管路（1）上。

8.如权利要求1所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述纯水溢流装置（11）包括两个平行设置的第一导流杆（16）和设置在两个所述第一导流杆（16）之间的第二导流杆（17），第一导流杆（16）和所述第二导流杆（17）形成工字型溢流杆，溢流杆上设置有多个溢流口（18）。

9.如权利要求8所述的一种抛光硅片鼓泡清洗装置，其特征在于，所述纯水溢流装置（11）水平设置在清洗槽（9）内，纯水溢流管路（13）的一端开口与第二导流杆（17）垂直连通。