[实用新型]膜层沉积设备有效
申请号: | 201920970118.5 | 申请日: | 2019-06-25 |
公开(公告)号: | CN210215541U | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 林立;俞雷;张雷;曾圣翔;郭松辉;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 设备 | ||
1.一种膜层沉积设备,其特征在于,包括:
腔室;
晶圆放置位,设置于所述腔室内;
泵口,设置于所述腔室内,位于所述晶圆放置位旁,连通至泵,用于抽取所述腔室内的气体;
泵罩,罩设于所述泵口,且所述泵罩顶面密封,侧面设置有通孔,所述泵通过所述通孔抽取所述腔室内的气体。
2.根据权利要求1所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述通孔的数目至少为两个。
3.根据权利要求1所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述泵罩呈圆柱形。
4.根据权利要求2所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述通孔设置成一排,且所述通孔所在的平面与所述泵罩的顶面平行。
5.根据权利要求2所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述通孔设置成两排以上,且所述通孔所在的平面与所述泵罩的顶面平行。
6.根据权利要求2所述的膜层沉积设备,其特征在于,所有通孔均匀分布于所述泵罩的侧面。
7.根据权利要求2所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述晶圆放置位的数目为四个。
8.根据权利要求7所述的膜层沉积设备,其特征在于,四个所述晶圆放置位以2×2的排列方法排列于所述腔室内的同一平面上,且各行之间的距离与各列之间的距离相等。
9.根据权利要求8所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述泵口的数目为四个,分别两两设置在两列晶圆放置位之间,以及两两设置在两行晶圆放置位之间。
10.根据权利要求9所述的膜层沉积设备,其特征在于,所述四个泵口的连线的外轮廓构成一正方形,且该正方形的对角线,与所述四个晶圆放置位构成的正方形的对角线呈45°度夹角。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的