[实用新型]一种高通量共沉淀合成装置

权利要求书

1.一种高通量共沉淀合成装置，其特征在于，包括：主体框架、液体泵、切换分配阀组、分配针组、共沉淀反应模块以及中央控制系统；

所述液体泵固定在所述主体框架上，所述切换分配阀组通过供液管路与所述液体泵相连，所述切换分配阀组通过分配管路与所述分配针组相连；

所述分配针组可拆卸地固定在所述共沉淀反应模块上，所述共沉淀反应模块固定在所述主体框架上；

所述液体泵、所述切换分配阀组以及所述共沉淀反应模块分别与所述中央控制系统相连。

2.如权利要求1所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，高通量共沉淀合成装置还包括：二轴机械手以及PH探针；

所述二轴机械手固定在所述主体框架上，所述PH探针固定在所述二轴机械手上；

所述二轴机械手和所述PH探针分别与所述中央控制系统相连。

3.如权利要求2所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，所述二轴机械手包括：X轴系统、Z轴系统以及悬臂；

所述X轴系统固定在所述主体框架上，所述Z轴系统固定在所述X轴系统的移动端上，所述悬臂固定在所述Z轴系统的移动端上；

所述X轴系统以及所述Z轴系统分别与所述中央控制系统相连。

4.如权利要求2所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，高通量共沉淀合成装置还包括：PH探针清洗校准模块；

PH探针清洗校准模块固定在所述主体框架上。

5.如权利要求4所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，所述PH探针校准模块包括：探针清洗组件、探针干燥组件、探针校准容器以及设置在所述探针校准容器内的校准液。

6.如权利要求1所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，所述高通量共沉淀合成装置还包括：分配针清洗模块；

所述分配针清洗模块固定在所述主体框架上；

其中，任意相邻的两个所述共沉淀反应模块之间均设置有所述分配针清洗模块。

7.如权利要求1所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，述高通量共沉淀合成装置还包括：反应釜暂存支座；

所述反应釜暂存支座固定在所述主体框架上。

8.如权利要求1～7任一项所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，所述切换分配阀组包括：切换阀和分配阀；

所述切换阀的输入端通过所述供液管路与所述液体泵相连，所述切换阀的输出端与所述分配阀的输入端相连，所述分配阀的输出端通过所述分配管路与所述分配针组相连。

9.如权利要求8所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，所述共沉淀反应模块包括：顶盖、冷却密封盖、底座结构、加热结构以及电磁搅拌结构；

所述分配针组固定在所述顶盖上，所述顶盖可拆卸地扣合在所述冷却密封盖上；

所述底座结构包括：底座以及设置在所述底座内的反应釜；

所述冷却密封盖固定在所述底座上密封所述反应釜，并设置有与所述分配针组对应的注液口；

所述加热结构固定在所述底座上，并与所述中央控制系统相连；

所述电磁搅拌结构设置在所述底座上，并与所述中央控制系统相连。

10.如权利要求9所述的高通量共沉淀合成装置，其特征在于，所述冷却密封盖包括：密封盖、隔热垫以及冷却系统；

所述注液口设置在所述密封盖上，位于所述反应釜上方；

所述隔热垫设置在所述密封盖的底端面上；

其中，所述冷却系统包括：冷却管；

所述冷却管固定在所述顶盖底端面上，位于所述反应釜正上方，并与所述中央控制系统相连；

所述隔热垫上开设与所述反应釜的釜口匹配的孔；

所述注液口连通所述隔热垫开设的孔，并错开所述冷却管分布在所述顶盖上。