[实用新型]用于分配工艺气体的喷头和物理气相沉积设备有效
| 申请号： | 201920979542.6 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN210215520U | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 何文;薛超;林宗贤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人： | 李镝的 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 分配 工艺 气体 喷头 物理 沉积 设备 | ||
1.一种用于分配工艺气体的喷头，其特征在于，包括：
总气流管，其被配置为将工艺气体输入到分气流管中；
恒温器，其被配置为对喷头中用于容纳工艺气体的气室进行热隔离；
恒温管，其被配置为将恒温液输入到至少部分地包围气室的恒温器中；
多个喷淋板，所述多个喷淋板在其厚度方向上彼此间隔一定距离地布置在所述气室中，使得所述气室被所述多个喷淋板分隔成多个子气室，其中所述喷淋板具有允许工艺气体透过的穿孔；
第一分气流管，其被配置为将工艺气体引入到所述多个子气室至少之一的中部；以及
第二分气流管，其被配置为将工艺气体引入到所述多个子气室至少之一的边缘处。
2.根据权利要求1所述的喷头，其特征在于，所述恒温器包括：
水盘，其在与喷淋板的长度方向平行的方向上延伸并覆盖气室的顶部；以及
水环，其在与喷淋板的长度方向垂直的方向上延伸并覆盖气室的侧面。
3.根据权利要求1所述的喷头，其特征在于，在第一分气流管和/或第二分气流管中布置有气流控制阀。
4.根据权利要求1所述的喷头，其特征在于，所述喷淋板包括第一喷淋板、第二喷淋板和第三喷淋板，它们从上到下依次间隔一定距离布置。
5.根据权利要求4所述的喷头，其特征在于，第一喷淋板和第二喷淋板的穿孔的直径在喷淋板的厚度方向上不变，并且第三喷淋板的穿孔的直径在平喷淋板的厚度方向上向外减小。
6.一种物理气相沉积设备，其特征在于，具有根据权利要求1至5之一所述的喷头。
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