[实用新型]一种便于组合的精密发射源座有效

专利信息
申请号: 201920982854.2 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN210176944U 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 邱艳;梁裕;王凤辉 申请(专利权)人: 安徽天匠精密机械有限公司
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46
代理公司: 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 代理人: 苏雪雪
地址: 239300 安徽省滁州*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 便于 组合 精密 发射
【说明书】:

实用新型公开了一种便于组合的精密发射源座,包括传输头,所述传输头的一端安装有主体,所述主体的上端设置有固定槽,所述固定槽的下端设置有放置槽,所述固定槽的两端均设置有第一螺纹孔,所述主体的一侧安装有梯形滑块,所述主体的另一侧设置有梯形滑槽,所述梯形滑槽的一端安装有固定螺钉,所述主体的内侧安装有限位板,所述限位板的外表面设置有第二螺纹孔,所述主体的下端安装有转轴,所述转轴的外表面安装有轴承。本实用新型通过安装梯形滑块与主体的配合,使得该装置可以通过梯形滑块与梯形滑槽进行组合,通过安装齿轮柱与旋转杆的配合,使得该装置可以通过转动旋转杆进行调节离子溅射的角度。

技术领域

本实用新型涉及发射源座技术领域,具体为一种便于组合的精密发射源座。

背景技术

随着社会经济的快速发展,离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电,产生正的气体离子;在阴极和阳极间电压的加速作用下,荷正电的离子轰击阴极表面,使阴极表面材料原子化;形成的中性原子,从各个方向溅出,射落到试样的表面,于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜,所以说这种形成干涉膜的方法与湃澎霍夫蒸发的方法相似。由于阴极表面被击出的材料主要是中性原子,如果离子碰撞的能量是低的,即在低的加速电压下,击出的原子数目是相当少的,可忽略不计;在高能离子的撞击下,即加速电压超过五百伏特,实际上每个离子能从靶材表面击出一个原子,从靶材表面溅出原子的速度,主要决定于靶材、加速电压,气压和气氛的性质。

但是,现有的精密发射源座不便于组合,导致效率低,不方便调节离子溅射的角度;因此,不满足现有的需求,对此我们提出了一种便于组合的精密发射源座。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种便于组合的精密发射源座,以解决上述背景技术中提出的精密发射源座不便于组合,导致效率低,不方便调节离子溅射的角度等问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种便于组合的精密发射源座,包括传输头,所述传输头的一端安装有主体,所述主体的上端设置有固定槽,所述固定槽的下端设置有放置槽,所述固定槽的两端均设置有第一螺纹孔,所述主体的一侧安装有梯形滑块,所述主体的另一侧设置有梯形滑槽,所述梯形滑槽的一端安装有固定螺钉,所述主体的内侧安装有限位板,所述限位板的外表面设置有第二螺纹孔,所述主体的下端安装有转轴,所述转轴的外表面安装有轴承,所述轴承的下端安装有齿轮盘,所述齿轮盘的一端安装有齿轮柱,所述齿轮柱的一端安装有旋转杆,所述旋转杆的外表面安装有底座。

优选的,所述传输头的一端与主体的一端完全贴合,所述传输头与主体通过焊接固定。

优选的,所述齿轮柱的一端与旋转杆的一端完全贴合,所述齿轮柱与旋转杆通过焊接固定。

优选的,所述转轴的下端与齿轮盘的上端完全贴合,所述转轴与齿轮盘通过卡槽连接。

优选的,所述固定螺钉的一端与主体的另一端完全贴合,所述固定螺钉与主体通过螺纹连接。

优选的,所述梯形滑块的一侧与主体的一侧完全贴合,所述梯形滑块与主体通过焊接连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型通过安装传输头与主体的配合,使得该装置在离子溅射镀膜时精准稳定,通过安装齿轮柱与旋转杆的配合,使得该装置可以通过转动旋转杆进行调节离子溅射的角度;

2、本实用新型通过安装转轴与齿轮盘的配合,使得该装置在转动时简单方便,通过安装固定螺钉与主体的配合,使得该装置固定另一个装置时连接牢靠,通过安装梯形滑块与主体的配合,使得该装置可以通过梯形滑块与梯形滑槽进行组合。

附图说明

图1为本实用新型整体的结构示意图;

图2为本实用新型整体的侧视图;

图3为本实用新型整体的右视图;

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