[实用新型]一种便于组合的精密发射源座有效
申请号: | 201920982854.2 | 申请日: | 2019-06-27 |
公开(公告)号: | CN210176944U | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | 邱艳;梁裕;王凤辉 | 申请(专利权)人: | 安徽天匠精密机械有限公司 |
主分类号: | C23C14/46 | 分类号: | C23C14/46 |
代理公司: | 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 | 代理人: | 苏雪雪 |
地址: | 239300 安徽省滁州*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便于 组合 精密 发射 | ||
本实用新型公开了一种便于组合的精密发射源座,包括传输头,所述传输头的一端安装有主体,所述主体的上端设置有固定槽,所述固定槽的下端设置有放置槽,所述固定槽的两端均设置有第一螺纹孔,所述主体的一侧安装有梯形滑块,所述主体的另一侧设置有梯形滑槽,所述梯形滑槽的一端安装有固定螺钉,所述主体的内侧安装有限位板,所述限位板的外表面设置有第二螺纹孔,所述主体的下端安装有转轴,所述转轴的外表面安装有轴承。本实用新型通过安装梯形滑块与主体的配合,使得该装置可以通过梯形滑块与梯形滑槽进行组合,通过安装齿轮柱与旋转杆的配合,使得该装置可以通过转动旋转杆进行调节离子溅射的角度。
技术领域
本实用新型涉及发射源座技术领域,具体为一种便于组合的精密发射源座。
背景技术
随着社会经济的快速发展,离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电,产生正的气体离子;在阴极和阳极间电压的加速作用下,荷正电的离子轰击阴极表面,使阴极表面材料原子化;形成的中性原子,从各个方向溅出,射落到试样的表面,于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜,所以说这种形成干涉膜的方法与湃澎霍夫蒸发的方法相似。由于阴极表面被击出的材料主要是中性原子,如果离子碰撞的能量是低的,即在低的加速电压下,击出的原子数目是相当少的,可忽略不计;在高能离子的撞击下,即加速电压超过五百伏特,实际上每个离子能从靶材表面击出一个原子,从靶材表面溅出原子的速度,主要决定于靶材、加速电压,气压和气氛的性质。
但是,现有的精密发射源座不便于组合,导致效率低,不方便调节离子溅射的角度;因此,不满足现有的需求,对此我们提出了一种便于组合的精密发射源座。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种便于组合的精密发射源座,以解决上述背景技术中提出的精密发射源座不便于组合,导致效率低,不方便调节离子溅射的角度等问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种便于组合的精密发射源座,包括传输头,所述传输头的一端安装有主体,所述主体的上端设置有固定槽,所述固定槽的下端设置有放置槽,所述固定槽的两端均设置有第一螺纹孔,所述主体的一侧安装有梯形滑块,所述主体的另一侧设置有梯形滑槽,所述梯形滑槽的一端安装有固定螺钉,所述主体的内侧安装有限位板,所述限位板的外表面设置有第二螺纹孔,所述主体的下端安装有转轴,所述转轴的外表面安装有轴承,所述轴承的下端安装有齿轮盘,所述齿轮盘的一端安装有齿轮柱,所述齿轮柱的一端安装有旋转杆,所述旋转杆的外表面安装有底座。
优选的,所述传输头的一端与主体的一端完全贴合,所述传输头与主体通过焊接固定。
优选的,所述齿轮柱的一端与旋转杆的一端完全贴合,所述齿轮柱与旋转杆通过焊接固定。
优选的,所述转轴的下端与齿轮盘的上端完全贴合,所述转轴与齿轮盘通过卡槽连接。
优选的,所述固定螺钉的一端与主体的另一端完全贴合,所述固定螺钉与主体通过螺纹连接。
优选的,所述梯形滑块的一侧与主体的一侧完全贴合,所述梯形滑块与主体通过焊接连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型通过安装传输头与主体的配合,使得该装置在离子溅射镀膜时精准稳定,通过安装齿轮柱与旋转杆的配合,使得该装置可以通过转动旋转杆进行调节离子溅射的角度;
2、本实用新型通过安装转轴与齿轮盘的配合,使得该装置在转动时简单方便,通过安装固定螺钉与主体的配合,使得该装置固定另一个装置时连接牢靠,通过安装梯形滑块与主体的配合,使得该装置可以通过梯形滑块与梯形滑槽进行组合。
附图说明
图1为本实用新型整体的结构示意图;
图2为本实用新型整体的侧视图;
图3为本实用新型整体的右视图;
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