[实用新型]PVD设备

说明书

本实用新型提供了一种PVD设备。PVD设备包括：真空箱；设置在真空箱内部的导轨槽、转动驱动部、阴极，转动驱动部的传动轮用于驱动载板在真空箱内移动，导轨槽用于对载板的移动方向进行导向，且阴极位于真空箱内并朝向载板；靶基距调整机构，靶基距调整机构与导轨槽连接且能够调节传动轮和导轨槽的位置，以调整传动轮和导轨槽上设置的载板与阴极的距离。本实用新型解决了现有技术中PVD设备的靶基距不能灵活调整的问题。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备领域，具体而言，涉及一种PVD设备。

背景技术

目前砷化镓太阳能生产线要投入使用的PVD磁控溅射镀膜设备是连续生产的真空设备，其基片置于载板上，依次进入设备内部进行真空镀膜。在镀膜过程中阴极的靶材表面与载板上基片之间的距离为靶基距，靶基距的大小影响镀膜的沉积速率及均匀性范围等参数，对镀膜质量的影响至关重要。

而在现有的PVD设备中，阴极上靶材与载板上的基片之间的距离(即靶基距)通常是不变的，或在设备维护期间，通过垫块等结构对靶材位置进行阶段性调整。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种PVD设备，以解决现有技术中PVD设备的靶基距不能灵活调整的问题。

为了实现上述目的，根据本实用新型的一个方面，提供了一种PVD设备，包括：真空箱；设置在真空箱内部的导向槽、转动驱动部、阴极，转动驱动部的传动轮用于驱动载板在真空箱内移动，导轨槽用于对载板的移动方向进行导向，且阴极位于真空箱内并朝向载板；靶基距调整机构，靶基距调整机构与导轨槽连接且能够调节传动轮和导轨槽的位置，以调整传动轮和导轨槽上设置的载板与阴极的距离。

进一步地，靶基距调整机构包括：至少一个调节组件，调节组件与导轨槽连接；和/或至少一个距离调节部，距离调节部与传动轮驱动连接。

进一步地，调节组件包括：第一电机，第一电机位于真空箱的外部；第一磁流体，第一电机与第一磁流体的第一端驱动连接，第一磁流体的第二端伸入真空箱内；曲柄，曲柄位于真空箱内，且曲柄的第一端与第一磁流体的第二端固定连接，曲柄的第二端与导轨槽连接，以通过曲柄的转动调节导轨槽与阴极之间的距离。

进一步地，当调节组件为多个时，多个调节组件沿导轨槽的传输方向间隔设置。

进一步地，当调节组件为多个时，多个调节组件的多个曲柄相平行设置。

进一步地，距离调节部设置在真空箱的外部并与转动驱动部驱动连接，以调节转动驱动部伸入真空箱内的距离，从而调节传动轮与阴极之间的距离。

进一步地，转动驱动部包括：第二电机，第二电机位于真空箱的外部；第二磁流体，第二磁流体的第一端与第二电机驱动连接，第二磁流体的第二端伸入真空箱内与传动轮驱动连接。

进一步地，距离调节部包括丝杠和第三电机，第三电机位于真空箱的外部并与丝杠驱动连接，转动驱动部还包括丝母，丝母套设在丝杠上，转动驱动部71的波纹管组件的至少一部分与丝母连接，以使丝母沿丝杠移动时带动波纹管组件伸缩，且第二磁流体运动。

进一步地，距离调节部还包括：导杆，导杆设置在真空箱的外表面上，且导杆的延伸方向平行于丝杠，且波纹管组件的一部分通过滑套与导杆滑动连接。

应用本实用新型的技术方案，本申请中的PVD设备包括真空箱；设置在真空箱内部的导向槽、转动驱动部、阴极，转动驱动部的传动轮用于驱动载板在真空箱内移动，导轨槽用于对载板的移动方向进行导向，且阴极位于真空箱内并朝向载板；靶基距调整机构，靶基距调整机构与导轨槽连接且能够调节传动轮和导轨槽的位置，以调整传动轮和导轨槽上设置的载板与阴极的距离。