[实用新型]应用于液氮冷阱的放溢装置有效
申请号: | 201920990537.5 | 申请日: | 2019-06-26 |
公开(公告)号: | CN210751366U | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 高金德;陈强 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B01D8/00 | 分类号: | B01D8/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201315*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 液氮 装置 | ||
本实用新型提供了一种应用于液氮冷阱的放溢装置,所述放溢装置具有双层结构,包括杯状主体和防冻保护层,所述防冻保护层设置在所述杯状主体的外表面,所述杯状主体的内直径大于液氮冷阱的外直径,所述杯状主体的内腔底部与所述液氮冷阱的底部连接。由于液氮冷阱容置在所述放溢装置中,这样工作人员在添加液氮时,一旦有液氮从液氮冷阱中溢出,可以被所述放溢装置容纳,从而避免溢出的液氮对设备或者人员造成危害。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,特别涉及一种应用于液氮冷阱的放溢装置。
背景技术
现有技术中扫描电子显微镜、聚焦离子束显微镜等高真空分析设备均需要配备液氮冷阱以提升样品仓的洁净度,降低样品表面的污染吸附,从而达到最佳的样品观测效果。
目前设备标配的液氮冷阱如图1所示,液氮冷阱的阱身侧面连通有出口管101,出口管101的出口端安装有密封阀102,液氮冷阱的开口处安装有密封盖103,密封盖103开口处安装有液氮注入口104。当液氮冷阱中的液氮被消耗用尽时,设备工作人员需要通过液氮注入口104向液氮冷阱中添加液氮,在此过程中有可能会造成液氮溢出。在常压下,液氮的温度低至-196℃,一旦外溢出,由于液氮温度太低,常温下不会立马挥发,少则会在液氮注入口形成水珠或者凝结成霜然后再慢慢挥发掉,多则可能会流至设备表面,从而冻坏设备表面,甚至带来人员冻伤的风险。由上可以看出,现有技术中在给设备标配的液氮冷阱添加液氮过程中存在诸多方面的安全隐患。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种应用于液氮冷阱的放溢装置,以解决现有技术中工作人员在给液氮冷阱添加液氮时液氮溢出,从而冻坏设备的表面,甚至带来人员冻伤的风险。
为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供了一种应用于液氮冷阱的放溢装置,所述放溢装置具有双层结构,包括杯状主体和防冻保护层,所述防冻保护层设置在所述杯状主体的外表面,所述杯状主体的内直径大于液氮冷阱的外直径,所述杯状主体的内腔底部与所述液氮冷阱的底部连接。
可选的,所述放溢装置还包括连接组件,所述连接组件设置在所述杯状主体的内腔底部,用于与所述液氮冷阱的底部连接。
可选的,所述连接组件为磁铁或螺丝。
可选的,所述杯状主体与防冻保护层的高度相同,两者处于齐平状态。
可选的,所述杯状主体的高度小于所述液氮冷阱的出口管与所述液氮冷阱底部之间的距离。
可选的,所述杯状主体的材质为金属材质。
可选的,所述杯状主体的材质为不锈钢材质。
可选的,所述防冻保护层的材质为泡沫材质。
可选的,所述杯状主体的侧壁垂直于所述杯状主体的底面。
可选的,所述杯状主体的侧壁向外围倾斜与所述杯状主体的底面形成一个大于90°且小于180°的夹角。
可选的,所述夹角的范围选在120°-150°之间。
可选的,所述防冻保护层的外表面设有一塑料薄膜层。
本实用新型提供的一种应用于液氮冷阱的放溢装置,具有以下有益效果:
所述放溢装置具有双层结构,包括杯状主体和防冻保护层,所述防冻保护层设置在所述杯状主体的外表面,所述杯状主体的内直径大于液氮冷阱的外直径,所述杯状主体的内腔底部与所述液氮冷阱连接。由于液氮冷阱容置在所述放溢装置中,这样工作人员在添加液氮时,一旦有液氮从液氮冷阱中溢出,可以被所述放溢装置容纳,从而避免溢出的液氮对设备或者人员造成危害。
附图说明
图1是现有技术中设备标配的液氮冷阱的结构示意图;
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