[实用新型]一种耐用型研磨抛光磨皮

说明书

本实用新型公布了一种耐用型研磨抛光磨皮，包括磨皮本体，和磨皮本体中心设置的定位孔，磨皮本体的上表面为抛光层，该抛光层上设有以定位孔为中心呈放射状设置的第一沟槽，与第一沟槽连通的第二沟槽，以及与定位孔同心设置的圆环槽，所述第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互连通，且第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互围城研磨单元，每个研磨单元内设有网格沟槽，网格沟槽内由相互连通的单一槽组成，该网格沟槽与所述第一沟槽或第二沟槽连通，网格沟槽与所述圆环槽相互连通；第一沟槽、第二沟槽、圆环槽以及网格沟槽宽度和/或深度不规则设置，第一沟槽、第二沟槽、网格沟槽内底部设有填充层，抛光层内具有回弹腔体；本实用新型能够抛光质量好，使用寿命延长。

技术领域

本实用新型涉及抛光磨皮领域，特别是一种耐用型研磨抛光磨皮。

背景技术

在我们实际研磨抛光过程中，研磨抛光主要讲的是化学机械抛光(CMP: ChemicalMechanical Polishing)。CMP是化学的和机械的综合作用，在一定压力及抛光浆料存在下，在抛光液中的腐蚀介质作用下工件表面形成一层软化层，抛光液中的磨粒对工件上的软化层进行磨削，因而在被研磨的工件表面形成光洁表面。抛光皮的作用：把抛光液有效均匀地输送到抛光皮的不同区域；从被加工表面带走抛光过程中的残留物质、碎屑等，达到去除效果；传递和承载加工去除过程中所需的机械载荷；维持抛光皮表面的抛光液薄膜，以便化学反应充分进行；保持抛光过程的平稳、表面不变形，以便获得较好的产品表面形貌。因此研发一种具有以上作用的抛光磨皮势在必行。

实用新型内容

为了解决上述存在的问题，本实用新型公开了一种耐用型研磨抛光磨皮，包括磨皮本体，和磨皮本体中心设置的定位孔，所述磨皮本体的上表面为抛光层，该抛光层上设有以所述定位孔为中心呈放射状设置的第一沟槽，与所述第一沟槽连通的第二沟槽，以及与所述定位孔同心设置的圆环槽，所述第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互连通，且第一沟槽、第二沟槽以及圆环槽相互围城研磨单元，每个研磨单元内设有网格沟槽，网格沟槽内由相互连通的单一槽组成，该网格沟槽与所述第一沟槽或第二沟槽连通，网格沟槽与所述圆环槽相互连通；所述第一沟槽、第二沟槽、圆环槽以及网格沟槽宽度和/或深度不相等设置，所述第一沟槽、第二沟槽、网格沟槽内底部设有填充层，具体地，所述填充层的材质采用无机材料；或所述填充层的材质采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，所述抛光层内具有回弹腔体。

优选地，所述第一沟槽、第二沟槽以定位孔为中心向外宽度逐渐增大。

优选地，所述圆环槽的宽度以所述定位孔为中心向外逐渐增大。

优选地，所述单一槽宽度小于所述圆环槽的最小宽度。

优选地，所述单一槽宽度小于所述第一沟槽和/或第二沟槽的最小宽度。

优选地，所述第二沟槽为波浪形或同向开口的C型。

优选地，所述第一沟槽为直线型。

优选地，所述回弹腔体为无序分布的长条状或椭圆状。

本实用新型的有益效果：(1)通过设置第一沟槽和第二沟槽，同时将第二沟槽设置成波浪形或C型，用来减慢抛光液的流动，使得抛光介质能够很好地和抛光件接触；提高抛光质量；(2)通过设置宽度不一的沟槽，能够对大小不一的抛光渣进行排放，避免残留影响抛光质量；(3)在第一沟槽、第二沟槽、网格沟槽内底部设有填充层，能够在长时间使用后，抛光层被磨损，使得沟槽的深度呗减小或磨平，该填充层设置为无机材料或采用微溶于碱液或者酸液的有机材料，能够在使用的过程中，微溶于抛光液中，使得沟槽深度增加，使得抛光液的流动能力得以改善，延长使用寿命。(4)通过在抛光层内设置回弹腔体，能够帮助抛光层回弹至原始状态。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图；

图2是本实用新型的侧视图；