[实用新型]布气结构

说明书

本实用新型提供了一种布气结构，包括：进气管，进气管包括出气端；密封罩，密封罩包括进气口和多个大小不同的出气口，密封罩的进气口与进气管的出气端密封相连。本实用新型的技术方案有效地解决了现有技术中的物理气相沉积方法中的镀膜不均匀的问题。

技术领域

本实用新型涉及镀膜的布气结构的技术领域，具体而言，涉及一种布气结构。

背景技术

PVD(Physical Vapor Deposition)---物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。

PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

膜层的均匀性一直是工艺判定镀膜质量的重要指标，膜层的均匀性与靶材磁场的分布，腔室内气体分布有关。随着靶材的消耗，靶材到膜层的距离发生变化，这样使得镀膜的时候会出现不均匀的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种布气结构，以解决现有技术中的物理气相沉积方法中的镀膜不均匀的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种布气结构包括：进气管，进气管包括出气端；密封罩，密封罩包括进气口和多个大小不同的出气口，密封罩的进气口与进气管的出气端密封相连。

进一步地，布气结构还包括驱动部，密封罩和进气管可转动的连接，驱动部与密封罩相连以驱动密封罩转动。

进一步地，密封罩为球体，多个大小不同的出气口位于直径最大的同一平面上，多个出气口的平面与进气管的轴线相垂直。

进一步地，多个大小不同的出气口由大到小依次排列。

进一步地，驱动部包括驱动电机，驱动电机驱动密封罩绕进气管的轴线转动。

进一步地，密封罩与进气管通过螺纹连接。

进一步地，进气管为多个，密封罩与多个进气管一一对应地设置。

进一步地，布气结构包括壳体，壳体包括侧壁，侧壁围成封闭的环形，多个进气管沿侧壁相间隔地均匀布置。

进一步地，驱动部为多个，多个驱动部与多个密封罩一一对应地设置。

进一步地，布气结构还包括控制器，控制器与驱动部相连，以控制驱动部。

应用本实用新型的技术方案，进气管的出气端与密封罩相连，密封罩上设置有多个大小不同的出气口。当靶材刚刚使用的时候，可以将密封罩上较小的出气口距离需要镀膜的位置近一些，随着靶材的使用，可以将密封罩上较大的出气口距离需要镀膜的位置近一些，这样可以使得镀膜比较均匀。本实用新型的技术方案有效地解决了现有技术中的物理气相沉积方法中的镀膜不均匀的问题。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本实用新型的布气结构的实施例的结构示意图；以及

图2示出了图1的布气结构的密封罩的结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、进气管；20、密封罩；21、出气口；30、壳体。

具体实施方式