[实用新型]用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置

说明书

本申请公开了一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。本实用新型设计合理，使用方便快捷，易于操作使用，适用于常规样品和非常规样品的双面磨平，应用范围广。

技术领域

本实用新型涉及材料研究领域，具体是一种纳米压痕仪检测用样品双面磨平装置。

背景技术

纳米压痕仪测试时，必须要确保被检测面在同一水平高度，这就要求样品的被检测面和其对应的底面要相互平行。对于半导体、玻璃等行业，由于生产工艺能确保双面平行，且被检测面不需要磨抛处理，因此不存在这类问题。而对于钢铁行业，由于样品形状复杂，通常需要将样品镶嵌后单面磨平或直接将检测面磨平，然后用切割机或线切割切出与被检测面相互平行的底面。但这种方法在实际操作过程中很难确保被检测面和其对应的底面相互平行，具有可操作性不强、使用便捷性差等诸多缺点。故此需要提出改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，以克服现有技术中的不足。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

本申请实施例公开了一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。

优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述基座为外径为100mm，所述通孔的直径径为40mm或30mm或10mm。

优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述第一螺纹孔的螺纹间距小于0.2mm。

优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述高度调节螺丝背离所述孔径调节器的一侧端面中心有一字通孔。

优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述孔径调节器设有通孔的一侧端面至少凹设有两个方孔，所述方孔以所述通孔的中轴线为中心等间距阵列设置。

优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块共轴设置。

优选的，在上述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置中，所述第二螺纹孔的底面和通孔的内壁的粗糙度优于Ra0.1mm，所述垫块的外表面的表面粗糙度优于Ra0.1mm。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

(1)本实用新型结构简单，使用方便，操作安全，制样效率高，对人员无特殊要求，适用范围广；

(2)可研磨规则和不规则样品，对样品类型也没有限制，制备出样品能够确保双面平行，提高纳米压痕测试结果的准确性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本实用新型具体实施例中用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置的结构示意图。

具体实施方式