[实用新型]一种晶圆共用背检平台有效
申请号: | 201921021380.1 | 申请日: | 2019-07-03 |
公开(公告)号: | CN210571916U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 徐冉冉;吴秋明;钟志芳;陈志远 | 申请(专利权)人: | 合肥新汇成微电子有限公司 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 共用 平台 | ||
本实用新型提供一种晶圆共用背检平台。所述晶圆共用背检平台底座;显微镜,所述显微镜设置于所述底座的上方;共用圆盘,所述共用圆盘设置于所述底座的上方,所述共用圆盘的一侧开设有辅助槽,并且共用圆盘的顶部设置有防护板,所述共用圆盘、所述辅助槽和所述防护板之间形成一个共用平台,共用平台适用于8吋和12吋晶圆的检测,所述辅助槽内部与所述底座的侧面之间相互连通。本实用新型提供的晶圆共用背检平台具有采用共用平台,共用治具进行背面检查时,不需要在更换单独平台,和操作显微镜机台,提升公司设备使用效率,共用治具进行背面检查时,不需要在更换单独平台,减少平台在显微镜机台操作平台上摩擦,有效的保护平台的平整度,粗糙度。
技术领域
本实用新型涉及晶圆测量辅助设备领域,尤其涉及一种晶圆共用背检平台。
背景技术
在显微镜机台上量测晶圆背面数据时,区分8吋和12吋含铁框晶圆,不同尺寸量测时,需更换不同尺寸量测平台。
在现有技术中,现有的量测平台有不同种类,8吋和12吋背检平台各一只,对应相同晶圆的背检,更换治具时,容易划伤显微镜操作平台,拉长检测晶圆的时间。
因此,有必要提供一种晶圆共用背检平台解决上述技术问题。
实用新型内容
本实用新型提供一种晶圆共用背检平台,解决了检验晶圆时需要更换相对应背检平台才可以量测,拉长作业时间和造成显微镜操作平台划伤的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型提供的晶圆共用背检平台包括:底座;显微镜,所述显微镜设置于所述底座的上方;共用圆盘,所述共用圆盘设置于所述底座的上方,所述共用圆盘的一侧开设有辅助槽,并且共用圆盘的顶部设置有防护板。
优选的,所述共用圆盘、所述辅助槽和所述防护板之间形成一个共用平台,共用平台适用于8吋和12吋晶圆的检测。
优选的,所述辅助槽内部与所述底座的侧面之间相互连通,并且辅助槽的尺寸与真空笔的尺寸相适配。
优选的,所述防护板采用防静电泡棉材质制作,并且防护板上设置有与辅助槽相适配的开口。
优选的,所述底座的内部开设有滑槽,并且滑槽的下方位于所述底座的内部开设有定位槽。
优选的,所述滑槽的表面为梯形的结构,并且滑槽内壁的顶部直径大于所述滑槽内壁的底部的直径。
优选的,所述底座上开设有安装槽,所述安装槽的内部与所述定位槽的内部相互连通,所述定位槽的尺寸与所述共用圆盘的尺寸相适配。
与相关技术相比较,本实用新型提供的晶圆共用背检平台具有如下有益效果:
本实用新型提供一种晶圆共用背检平台,采用共用平台,共用治具进行背面检查时,不需要在更换单独平台,和操作显微镜机台,提升公司设备使用效率,共用治具进行背面检查时,不需要在更换单独平台,减少平台在显微镜机台操作平台上摩擦,有效的保护平台的平整度,粗糙度。
附图说明
图1为本实用新型提供的晶圆共用背检平台的第一实施例的结构示意图;
图2为图1所示的共用平台的俯视图;
图3为本实用新型提供的晶圆共用背检平台的第二实施例的结构示意图;
图4为图3所示的底座内部的结构示意图。
图中标号:1、底座,2、显微镜,3、共用圆盘,31、辅助槽,32、防护板,4、滑槽,41、定位槽,5、安装槽。
具体实施方式
第一实施例:
下面结合附图和实施方式对本实用新型的第一实施例作进一步说明。
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