[实用新型]一种真空镀膜装置有效
申请号: | 201921044567.3 | 申请日: | 2019-07-05 |
公开(公告)号: | CN211112183U | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 陈学兵;王光辉 | 申请(专利权)人: | 苏州骏莱机电有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 孙茂义 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 装置 | ||
本实用新型公开了一种真空镀膜装置,包括:镀膜装置本体、夹持装置、真空装置、冷却装置和镀膜喷管装置,所述镀膜装置本体两侧设置有夹持装置,所述真空装置设置在镀膜装置本体的顶部,所述冷却装置设置在镀膜装置本体的底部一侧,所述镀膜喷管装置设置在镀膜装置本体内部上端,所述镀膜喷管装置连接于蒸镀源输送管上。通过上述方式,本实用新型提供的真空镀膜装置,将传统镀膜装置的单个镀膜源,分散成若干喷头,可以大大提高蒸镀的均匀性,提高镀膜层的平整度,提高产品品质,另外,将大部分蒸镀组件安装在蒸镀釜封头内,可以方便对设备的检修,降低使用成本。
技术领域
本实用新型涉及镀膜领域,特别是涉及一种真空镀膜装置。
背景技术
镀膜技术广泛应用于各种工件上,镀膜不仅能保护工件,防止工件磨损、氧化,而且使工件表面光滑,装饰性强;在薄膜制备过程中,需要很强的功率才能使金属原料从固体状态蒸发汽化,在真空镀膜工艺中,加热装置是一种重要的蒸发设备。加热装置使其中的物质蒸发,蒸发物质的原子或分子就会以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。但是,在镀膜过程中,容易出现镀膜层不均匀,镀膜质量不高等缺点。
发明内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种真空镀膜装置,使得镀膜层均匀。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种真空镀膜装置,包括:镀膜装置本体、夹持装置、真空装置、冷却装置和镀膜喷管装置,所述镀膜装置本体两侧设置有夹持装置,所述真空装置设置在镀膜装置本体的顶部,所述冷却装置设置在镀膜装置本体的底部一侧,所述镀膜喷管装置设置在镀膜装置本体内部上端,所述镀膜喷管装置连接于蒸镀源输送管上,所述镀膜喷管装置包括:蒸镀源分配管、喷头接头和喷头,所述蒸镀源分配管上连接有多个喷头接头,所述喷头接头上连接有喷头,所述蒸镀源分配管通过支架固定在镀膜装置本体内部上端。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述夹持装置包括:液压推动器、伸缩杆和夹持板,所述伸缩杆的一端与液压推动器连接,所述伸缩杆的另一端与夹持板连接。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述真空装置包括:真空管、真空泵和真空泵固定座,所述真空管的一端与镀膜装置本体连接,所述真空管的另一端与真空泵连接,所述真空泵固定安装于真空泵固定座上。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述冷却装置包括冷风机和风嘴,所述冷风机和风嘴相连接。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述镀膜装置本体底部设置有支撑脚。
本实用新型的有益效果是:本实用新型指出的一种真空镀膜装置,将传统镀膜装置的单个镀膜源,分散成若干喷头,可以大大提高蒸镀的均匀性,提高镀膜层的平整度,提高产品品质,另外,将大部分蒸镀组件安装在蒸镀釜封头内,可以方便对设备的检修,降低使用成本。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1是本实用新型一种真空镀膜装置一较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型实施例包括:
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