[实用新型]一种水雾降温反置式瓷砖抛光磨头

说明书

本实用新型提供一种水雾降温反置式瓷砖抛光磨头，包括设置有旋转主轴的磨头箱、驱动机构、若干个磨块和磨块座、摆动机构以及降温机构；驱动机构与旋转主轴连接；摆动机构设置在磨头箱内；磨块设置在磨块座上并位于磨头箱上方，磨块座通过轴承与磨头箱连接并与摆动机构连接；降温机构包括带有喷嘴的喷头、供水装置和输水套轴；喷头设置在磨头箱顶部，输水套轴套设在旋转主轴上并与磨头箱相连；输水套轴与喷头连通，供水装置与输水套轴连接，实现将水泵入输水套轴至喷头的喷嘴形成水雾喷出，对瓷砖进行降温和冲屑。本实用新型不仅可对瓷砖进行抛光，而且可在瓷砖抛光过程中进行冲屑和降温，从而提高瓷砖抛光的质量和效率。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖加工技术领域，更具体地说，涉及一种水雾降温反置式瓷砖抛光磨头。

背景技术

瓷砖抛光是加工瓷砖的关键环节。传统瓷砖抛光采用瓷砖被抛面朝上，抛光磨块朝下的正置式加工方式。这种瓷砖抛光方式产生的废屑需要通过额外的清洗工序才能清除，这就加大了瓷砖的加工成本和影响瓷砖的加工效率。

另外，瓷砖在抛光过程中由于抛光磨块与瓷砖之间的高速磨削，使得抛光磨块和瓷砖表面之间产生大量热量，局部的温度急剧升高，影响瓷砖的加工质量。同时，工作时产生的粉尘和磨削物不仅会产生二次污染，而且粉尘和磨削物附属在瓷砖砖坯表面会影响磨平抛光的光亮性和平整度，从而影响瓷砖砖坯磨平抛光的效果和质量。因此，需要清除高速磨削产生的粉尘和磨削物以及需要及时降温。

现阶段中，常见的冲屑和降温方式是水喷淋。该加工工艺需要消耗大量的水资源才能达到瓷砖的加工要求。水喷淋方式的降温效率低、消耗水量大，产生的废水污染环境，且吸收过多水分的瓷砖还要经过风干和烘干等处理工艺。因此，现阶段在节能减排的背景下，如何设计出一套能耗低、污染小和效率高的瓷砖抛光磨头，对瓷砖加工产业链升级有着重要意义。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的缺点与不足，提供一种水雾降温反置式瓷砖抛光磨头；该磨头不仅可对瓷砖进行抛光，而且可在瓷砖抛光过程中进行冲屑和降温，从而提高瓷砖抛光的质量，并实现低能耗、低污染和高效率的瓷砖抛光。

为了达到上述目的，本实用新型通过下述技术方案予以实现：一种水雾降温反置式瓷砖抛光磨头，用于对反置式夹持传送的瓷砖进行抛光；其特征在于：包括设置有旋转主轴的磨头箱、用于驱动磨头箱转动的驱动机构、用于对瓷砖进行抛光的若干个磨块和磨块座、用于使得磨块摆动的摆动机构以及用于冲屑和降温的降温机构；所述驱动机构与旋转主轴连接，实现驱动磨头箱旋转；所述摆动机构设置在磨头箱内；所述磨块设置在磨块座上并位于磨头箱上方，磨块座通过轴承与磨头箱连接并与摆动机构连接，实现磨块在磨头箱带动下旋转，并通过摆动机构实现摆动，对瓷砖进行抛光；

所述降温机构包括带有喷嘴的喷头、供水装置和输水套轴；所述喷头设置在磨头箱顶部，输水套轴套设在旋转主轴上并与磨头箱相连；所述输水套轴与喷头连通，供水装置与输水套轴连接，实现将水泵入输水套轴至喷头的喷嘴形成水雾喷出，对瓷砖进行降温和冲屑。

在上述方案中，本实用新型的抛光磨块不仅可对瓷砖进行抛光，而且可在瓷砖抛光过程中进行冲屑和降温，从而提高瓷砖抛光的质量。此外，本实用新型采用水雾降温方式具有消耗水量少和带走热量多的特点，因此具有良好的降温效果，水雾降温方式所需的水量比水喷淋方式的水量少，因此排放的污水也少，符合节能减排号召，从而实现低能耗和低污染的瓷砖抛光。在瓷砖抛光过程中，反置式夹持传送的瓷砖上的磨屑在重力作用下自行掉落，无需过多的水资源进行冲洗，且通过水雾降温的瓷砖含水量较低，从而提高抛光效率。

所述喷嘴的数量与磨块的数量相等，并沿喷头的周向均匀分布设置。

所述喷嘴的入口与喷头连通，出口设置为孔状并朝向磨块与瓷砖之间的抛光处；所述喷嘴内部沿出口方向设置有锥形的窄流通道。该设计可实现精准降温。

所述供水装置由高压水泵和输水管连接组成；所述输水管与输水套轴连接。