[实用新型]对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置

权利要求书

1.一种对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其特征在于，包括：

旋转靶材，其一端设置有与门车进行固定第一调距板；

用于实现磁控溅射的反应腔，其一端设置有可供旋转靶材伸入的第一轴孔，另一端设置有可供旋转靶材下方支撑轴伸出的条形第二轴孔；

设置在反应腔一侧，并与第二轴孔位置相配合的第二调距板；

其中，所述第一调距板、第二调距板上分别设置有对旋转靶材的垂直位置进行调整的第一条形螺孔、第二条形螺孔。

2.如权利要求1所述的对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其特征在于，所述第二轴孔、第一条形螺孔、第二条形螺孔分别被配置为采用圆角矩形。

3.如权利要求1所述的对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其特征在于，所述第一调距板、第二调距板在与第一轴孔、第二轴孔相配合的位置上分别设置有第一密封圈，第二密封圈；

其中，所述第一密封圈、第二密封圈的内径被配置为大于第一轴孔、第二轴孔的外径。

4.如权利要求1所述的对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其特征在于，所述反应腔上分别设置有与第一调距板、第二调距板相配合的调距组件，其被配置为包括：

用于对第一调距板、第二调距板的位置进行调整和/或限定的顶升机构；

设置于顶升机构一侧的刻度尺。

5.如权利要求4所述的对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其特征在于，所述顶升机构被配置为包括：

与反应腔相配合以实现固定的安装板；

设置于安装板上的顶丝，其上设置有与其相配合的螺母。

6.如权利要求1所述的对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置，其特征在于，所述第二调距板上设置有可供支撑轴伸出的第三轴孔；

所述支撑轴通过相配合的封头进而实现封装；

其中，所述封头内设置有与支撑轴相配合的O型密封圈。