[实用新型]一种等离子水洗双腔废气处理设备有效

专利信息
申请号: 201921061519.5 申请日: 2019-07-08
公开(公告)号: CN210332229U 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 张伟明;陈立全 申请(专利权)人: 上海盛剑环境系统科技股份有限公司
主分类号: B01D53/74 分类号: B01D53/74;B01D53/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 孙晓红
地址: 201821 上海市嘉定区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 水洗 废气 处理 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种等离子水洗双腔废气处理设备,包括箱体和设于所述箱体内的第一废气处理单元和第二废气处理单元;还包括连通所述第一废气处理单元的进口处和所述第二废气处理单元的进口处、用以当所述第一废气处理单元或所述第二废气处理单元发生故障时,将废气切换至正常废气处理单元的进口切换阀组。上述等离子水洗双腔废气处理设备废气处理能力提高,且运行稳定性好。

技术领域

本实用新型涉及废气处理设备技术领域,特别涉及一种等离子水洗双腔废气处理设备。

背景技术

半导体在制成过程中,如薄膜区,扩散区,刻蚀区,IMP区域会使用大量毒性,腐蚀性气体及易燃性气体。这些气体不能直接排放进大气层或不利于长距离管道收集,必须要通过专门废气处理设备在主设备排放源当地处理,避免以上毒气长距离输送时,因气体间相互反应,或者泄漏,会造成火灾等危险事件发生。

等离子体废气单腔技术研究始于上世纪末欧美,日韩研制的等离子体废气处理设备,而半导体行业提至国家战略,而整个半导体制程工艺中,作为前道制程工艺中废气污染最为严峻,几乎每个工序都需要大量的有毒,有害易燃的气体或者化学品,而废气处理设备正是处理各种废气的必备辅助设备,目前市面上的各种形式的单腔的废气处理装置稳定性不好,且单腔的废气处理量已无法更好的满足工艺的需求且当单腔发生故障时,无法及时对废气进行处理,可能会造成火灾等危险事件的发生。

因此,如何改善废气处理设备的废气处理能力,提高其运行稳定性成为本领域技术人员需要解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种等离子水洗双腔废气处理设备,该设备废气处理能力提高,且运行稳定性好,避免了无法及时处理废气而引发火灾等危险。

为实现上述目的,本实用新型提供一种等离子水洗双腔废气处理设备,包括箱体和设于所述箱体内的第一废气处理单元和第二废气处理单元;

还包括连通所述第一废气处理单元的进口处和所述第二废气处理单元的进口处、用以当所述第一废气处理单元或所述第二废气处理单元发生故障时,将废气切换至正常废气处理单元的进口切换阀组。

可选地,所述第一废气处理单元包括第一进口管、连接所述第一进口管的第一反应腔、连接所述第一反应腔的第一等离子激发装置和设于所述第一反应腔之后的第一水洗模块;

所述第二废气处理单元包括第二进口管、连接所述第二进口管的第二反应腔、连接所述第二反应腔的第二等离子激发装置和设于所述第二反应腔之后的第二水洗模块;

所述进口切换阀组连通所述第一进口管和所述第二进口管。

可选地,所述进口切换阀组包括设于所述第一进口管的第一三通阀和设于所述第二进口管的第二三通阀,还包括连接所述第一三通阀和所述第二三通阀的连接管道。

可选地,所述第一三通阀和所述第二三通阀均为电动阀,还包括用以控制所述第一三通阀和所述第二三通阀开启或关闭的自动控制机构。

可选地,所述自动控制机构为单片机或PLC。

可选地,所述第一水洗模块包括第一溢流部、连接所述第一溢流部的第一水箱和设于所述水箱之后的第一洗涤部;

所述第二水洗模块包括第二溢流部、连接所述第二溢流部的第二水箱和设于所述水箱之后的第二洗涤部;

所述第一洗涤部和所述第二洗涤部连接至废气排放管道。

可选地,所述第一溢流部、所述第一洗涤部、所述第二溢流部和所述第二洗涤部均设有单级或多级喷头。

可选地,还包括设于所述第一反应腔和所述第二反应腔内的温度检测装置。

可选地,还包括设于所述第一进口管和所述第二进口管的吹扫清灰装置。

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