[实用新型]一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具有效
| 申请号： | 201921068030.0 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN210450213U | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 王永东 | 申请（专利权）人： | 安徽富乐德科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00 |
| 代理公司： | 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 34105 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 244000 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体设备 同轴 阳极 部件 洗净 保护 | ||
【权利要求书】：
1.一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，其特征在于：包括内保护(1)，所述内保护(1)的内部开设有第一通孔(2)，所述内保护(1)靠近第一通孔(2)的一侧固定连接有插入保护(3)，所述插入保护(3)的内部开设有第二通孔(4)，所述内保护(1)的形状为圆环，所述插入保护(3)的形状为圆环，所述内保护(1)的外径大于插入保护(3)的外径，所述内保护(1)的内径与插入保护(3)的内径相同，所述内保护(1)的厚度小于插入保护(3)的厚度。
2.根据权利要求1所述的一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，其特征在于：所述内保护(1)和插入保护(3)的材料均为优质不锈钢。
3.根据权利要求1所述的一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，其特征在于：所述内保护(1)的平面度误差为0.1mm。
4.根据权利要求1所述的一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，其特征在于：所述插入保护(3)外径的长度为342mm。
5.根据权利要求1所述的一种半导体设备同轴阳极环部件洗净溶射保护治具，其特征在于：所述插入保护(3)外径的误差值在0mm-0.05mm之间。
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