[实用新型]一种防尘薄膜组件收纳结构有效
申请号: | 201921075953.9 | 申请日: | 2019-07-11 |
公开(公告)号: | CN210038435U | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 赵滨 | 申请(专利权)人: | 天津榕琳碧水科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62 |
代理公司: | 11582 北京久维律师事务所 | 代理人: | 邢江峰 |
地址: | 300203 天津市武清区豆张*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 收纳盒 防尘板 第一空腔 活动杆 本实用新型 薄膜主体 防尘薄膜组件 垂直设置 弹簧弹力 第二空腔 两侧设置 收纳结构 向上移动 移动能力 防尘 限位块 上端 弹簧 复位 延伸 内壁 取下 位孔 位块 左端 挤压 把手 取出 脱离 运输 恢复 | ||
本实用新型公开了一种防尘薄膜组件收纳结构,包括收纳盒,所述收纳盒上端两侧均垂直设置有把手,所述收纳盒两侧内部开设有第一空腔,所述收纳盒内部两侧设置有限位块,所述限位块与收纳盒内壁之间设置有连接块,所述连接块中心位置外侧开设有限位孔,所述连接块之间设置有薄膜主体,所述第一空腔内侧在收纳盒上开设有第二空腔,所述活动杆左端延伸至第一空腔内部,活动杆右侧延伸至收纳盒内部。本实用新型弹簧弹力通过活动杆挤压防尘板,从而利用摩擦力固定防尘板,利用防尘板进行防尘,同时防止防尘板在运输时脱离,使用时向上移动防尘板,防尘板取下后,弹簧带动整个装置复位,在垂直方向上恢复连接块的移动能力,从而方便薄膜主体的取出。
技术领域
本实用新型涉及收纳设备领域,具体为一种防尘薄膜组件收纳结构。
背景技术
目前,LSI以及超LSI等的半导体制造或为液晶显示装置等的制造中,要进行将半导体晶片或者液晶用原板用光进行照射来进行图案的制作的光刻;此时,光掩模或者中间掩模如果有灰尘附着,灰尘对光进行吸收, 使光弯曲, 由此就会使转印的图案变形,边缘不齐,并且基底变黑等的现象为发生。作业通常在无尘室中进行,即使如此,也难以使光掩模总是保持清洁,使用透明的防尘薄膜在防尘薄膜组件框架上贴附的防尘薄膜组件;如此,防尘薄膜组件在光掩模上载置而进行曝光,异物不在光掩模的表面直接附着,而是在防尘薄膜上附着,所以光刻时,只要将焦点对准光掩模的图案,防尘薄膜上的异物就与转印无关。
但是现有的防尘薄膜收纳机构在使用时,防尘薄膜的拿取较为困难,需要转动或者利用工具打开收纳机构,使用复杂,所以急需要一种装置来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种防尘薄膜组件收纳结构,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种防尘薄膜组件收纳结构,包括收纳盒,所述收纳盒上端两侧均垂直设置有把手,把手便于收纳盒的拿取移动,所述收纳盒两侧内部开设有第一空腔,所述收纳盒内部两侧设置有限位块,所述限位块与收纳盒内壁之间设置有连接块,所述连接块中心位置外侧开设有限位孔,所述连接块之间设置有薄膜主体,所述第一空腔内侧在收纳盒上开设有第二空腔,所述第二空腔中心位置水平设置有活动杆,活动杆沿着第二空腔中心位置左右滑动,所述活动杆左端延伸至第一空腔内部,活动杆右侧延伸至收纳盒内部,所述活动杆左侧设置有倾斜块,所述第二空腔内部在活动杆外侧设置有延伸块,延伸块沿着第二空腔左右滑动,所述延伸块右侧与第二空腔右侧内壁之间设置有弹簧,所述收纳盒上端垂直设置有防尘板,防尘板防止灰尘等杂物进入收纳盒内部,所述防尘板两侧下端设置为三角块,所述防尘板上端两侧设置有软垫,软垫便于向下按压防尘板。
优选的,所述把手外侧设置有橡胶垫,橡胶垫使得把手使用起来更加舒适。
优选的,所述活动杆右侧与限位孔相互契合。
优选的,所述弹簧设置在活动杆外侧位置。
优选的,所述三角块倾斜面与倾斜块左侧倾斜面契合。
优选的,所述防尘板中心位置设置有透明观察板,透明观察板便于观察收纳盒内部储存的薄膜主体。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型将连接块安置在限位块与收纳盒内壁之间位置,通过限位块配合收纳盒限制连接块位置,从而在水平方向上固定连接块与薄膜主体,防止搬运时薄膜主体在水平方向移动,导致薄膜主体触碰磨损;
2、本实用新型弹簧弹力通过活动杆挤压防尘板,从而利用摩擦力固定防尘板,利用防尘板进行防尘,同时防止防尘板在运输时脱离,使用时向上移动防尘板,防尘板取下后,弹簧带动整个装置复位,在垂直方向上恢复连接块的移动能力,从而方便薄膜主体的取出。
附图说明
图1为本实用新型一种防尘薄膜组件收纳结构整体结构示意图;
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备