[实用新型]一种LED曝光机真空结构有效

专利信息
申请号: 201921081221.0 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN210428086U 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 赖日阳;赖华明;王百年 申请(专利权)人: 深圳市格意特智能装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 代理人: 周松强
地址: 518000 广东省深圳市宝安区福海*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 led 曝光 真空 结构
【权利要求书】:

1.一种LED曝光机真空结构,该真空结构包括抽真空组件,所述抽真空组件包括腔体上盖、真空膜和腔体下盖,所述真空膜覆盖在腔体上盖后与腔体下盖形成真空空腔,其特征在于,该抽真空组件上还设置有凸台,所述凸台设置在腔体上盖与真空膜之间,所述腔体上盖和腔体下盖盖合时,所述凸台抵持真空膜进而压缩真空空腔。

2.如权利要求1所述的一种LED曝光机真空结构,其特征在于,所述腔体上盖与腔体下盖大小适配,所述腔体下盖上设置有容纳槽,当腔体上盖与腔体下盖围合时,所述腔体上盖上覆盖的真空膜与容纳槽围合形成真空空腔。

3.如权利要求2所述的一种LED曝光机真空结构,其特征在于,所述腔体上盖两端向内凹陷形成固定槽,所述真空膜两侧固定在固定槽中。

4.如权利要求3所述的一种LED曝光机真空结构,其特征在于,所述凸台呈环形,所述环形凸台设置在腔体上盖与真空膜之间,当腔体上盖与腔体下盖围合时,所述环形凸台定位在容纳槽中。

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