[实用新型]测试装置

说明书

本实用新型提供了一种测试装置，包括：测试平台，测试平台用于放置磁棒和靶材；检测组件，检测组件包括磁场检测件和测距件，磁场检测件的检测头和测距件的检测头均可移动地设置在测试平台上，磁场检测件的检测头用于检测磁棒的磁场，测距件的检测头用于检测靶材的厚度。通过本实用新型提供的技术方案，能够解决现有技术中的测试装置不能同时测试出磁棒的磁场和靶材厚度的技术问题。

技术领域

本实用新型涉及测试装置技术领域，具体而言，涉及一种测试装置。

背景技术

目前，在现代镀膜工业生产中，生产效率主要受薄膜的沉积速率和靶材的利用率两个因素的影响。磁控溅射技术与传统的蒸发及各种湿的化学薄膜沉积法相比，具有宽的膜层均匀性、膜层与基片结合牢固等优点。一旦磁控阴极的结构存在缺陷，尤其是磁场的设计不能满足靶材表面溅射区的磁场均匀分布，会造成靶材表面非均匀刻蚀，影响薄膜质量。磁场的设计好坏对后期设备运行以及镀膜质量的好坏(靶材利用率以及均匀性)有着至关重要的影响。因而，不论是在磁棒的设计过程中还是在产品检验过程中，磁棒的磁场分布，磁场强度的测试都不可缺少，另外靶材在溅射中消耗的厚度均匀性测试也很重要。

现有技术中的磁场测试装置一般通过第一手轮手动控制磁场检测件高度，第二手轮移动机构控制轴向移动，来测试磁场轴向分布以及磁场强度的强弱变化。此种测试方法需要手动操作，不能精确控制其移动距离；只能测试旋转阴极磁棒的磁场，只有磁场测试的单一功能，不能测试靶材厚度等参数。

另外，在设计阴极磁棒时，利用有限元分析软件ANSYS建模、赋予材料、划分网格、设定边界条件，施加初始载荷来模拟磁棒磁场分布，此方法虽然在一定程度上可以模拟真实的磁场分布；但由于有限元软件的局限性、划分网格的质量等都会影响到结果的真实性，只能起到辅助性设计的作用。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种测试装置，以解决现有技术中的测试装置不能同时测试出磁棒的磁场和靶材厚度的技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种测试装置，包括：测试平台，测试平台用于放置磁棒和靶材；检测组件，检测组件包括磁场检测件和测距件，磁场检测件的检测头和测距件的检测头均可移动地设置在测试平台上，磁场检测件的检测头用于检测磁棒的磁场，测距件的检测头用于检测靶材的厚度。

进一步地，测试装置还包括：移动组件，移动组件的至少部分可移动地设置在测试平台上，磁场检测件的检测头和测距件的检测头均设置在移动组件上，以通过移动组件调整磁场检测件的检测头和测距件的检测头的位置。

进一步地，测试装置还包括：驱动机构，驱动机构与移动组件的至少部分连接，以通过驱动机构驱动移动组件的至少部分运动。

进一步地，测试装置还包括：控制机构，与驱动机构连接，控制机构用于控制驱动机构的工作。

进一步地，移动组件包括：第一导轨，设置在测试平台上；第二导轨，与第一导轨呈第一预定角度设置，第二导轨可移动地设置在第一导轨上；第三导轨，与第二导轨呈第二预定角度设置，第三导轨可移动地设置在第二导轨上，磁场检测件的检测头和测距件的检测头均设置在第三导轨上。

进一步地，移动组件还包括：连接臂，连接臂可移动地设置在第三导轨上，磁场检测件的检测头和测距件的检测头均设置在连接臂上。

进一步地，测试装置还包括：支撑组件，支撑组件设置在测试平台上，支撑组件用于支撑磁棒和靶材。

进一步地，测试装置还包括：第一支撑件，设置在测试平台上；第二支撑件，与第一支撑件间隔设置，第二支撑件可移动地设置在测试平台上。

进一步地，测试装置还包括：第一固定件，设置在支撑组件上，以通过第一固定件固定磁棒；和/或，第二固定件，设置在支撑组件上，以通过第二固定件固定靶材。