[实用新型]一种激光烧灼装置

权利要求书

1.一种激光烧灼装置，其特征在于包括激光发射模块(1)、封污镜组件(2)与被烧灼物定位机构(3)，

激光发射模块(1)所发射的激光通过封污镜组件(2)照射在被烧灼物上；封污镜组件(2)位于该装置的光路上，其中心距离该装置的光腰处4mm以上，其通光孔半径小于10mm；

被烧灼物定位机构(3)用于放置被烧灼的物体，并保证被烧灼的物体的烧灼处位于该装置的光腰处正负各2mm范围内。

2.如权利要求1所述的激光烧灼装置，

其特征在于，所述封污镜组件(2)的镜头表面焦度小于0.1，且镀有激光增透膜层。

3.如权利要求1所述的激光烧灼装置，

还包括主壳体，主壳体分为上主壳(4)与下主壳(5)，上主壳(4)与下主壳(5)紧扣，激光发射模块(1)、封污镜组件(2)都固定在主壳体内部，

其特征在于主壳体内还包括上扣件(6)和下扣件(7)，分别与上主壳(4)、下主壳(5)锁固，上扣件(6)和下扣件(7)在前端留有与被烧灼物定位机构(3)贴合的开口与封污镜出光口(8)，与被烧灼物定位机构(3)贴合的开口为被烧灼物定位机构(3)截面大小的开孔，且开孔中心出为封污镜出光口(8)，嵌有封污镜组件(2)的通光孔(9)。

4.如权利要求1所述的激光烧灼装置，

其特征在于，所述封污镜组件(2)的通光孔(9)与被烧灼物的烧灼处之间由封闭结构形成一个半开放式空腔体(10)，通光孔一端为由封污镜组件(2)上的封污镜片(11)进行封闭，所述半开放式空腔体内壁为螺纹结构(12)或环状齿形结构。

5.如权利要求3所述的激光烧灼装置，

其特征在于，所述被烧灼物定位机构(3)可以从所述主壳体中拉出或推回。

6.如权利要求5所述的激光烧灼装置，

其特征在于，所述被烧灼物定位机构(3)包括一个以上位移调节杆，且该装置出光方向与位移调节杆位移方向平行；

位移调节杆上包括一个限制被烧灼物放置位置的被烧灼物限位结构(13)，当位移调节杆从主壳体中抽出时，位移调节杆上的被烧灼物限位结构(13)中心点与激光发射模块(1)的出光口的距离大于10mm。

7.如权利要求6所述的激光烧灼装置，

其特征在于，所述主壳体内部包括主壳体定位结构(16)；所述位移调节杆上包括1个以上调级定位结构(17)，主壳体定位结构(16)与位移调节杆上的其中一个以上调级定位结构(17)相配合。

8.如权利要求1所述的激光烧灼装置，

其特征在于，被烧灼物限位结构(13)为一个5至9mm深的凹槽(19)，其半径为9至13mm，其宽度为20至25mm。

9.如权利要求1所述的激光烧灼装置，

其特征在于，在激光发射模块(1)和封污镜组件(2)之间的光路上还包括缩束镜组件(20)，缩束镜组件(20)为正光焦度，其通光孔径小于10mm，使得该装置的光腰处光斑半径小于0.7mm。

10.如权利要求9所述的激光烧灼装置，

其特征在于，所述缩束镜组件(20)接近于该装置光腰的镜头表面为平面，远离于该装置光腰的镜头表面为凸面；

所述缩束镜组件(20)通过真空沉积镀膜工艺，在缩束镜组件(20)两端均镀有激光波段增透、白光波段增反的组合膜层。