[实用新型]一种监别孔隙装置以及一种离子注入机有效
申请号: | 201921098749.9 | 申请日: | 2019-07-12 |
公开(公告)号: | CN210040120U | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 朱洁;廖宜专;吴宗祐;林宗贤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01L21/67 |
代理公司: | 31313 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 李镝的 |
地址: | 223302 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 孔隙单元 本实用新型 石墨板 彼此连接 旋转组件 可转动 离子束 停机 支承 穿过 生产 | ||
本实用新型涉及一种监别孔隙装置,其特征在于,包括:多个监别孔隙单元,其中每个监别孔隙单元包括石墨板,在所述石墨板上设置有供离子束穿过的孔隙,其中所述多个监别孔隙单元彼此连接,使得所述多个监别孔隙单元保持在同一平面内;以及旋转组件,其用于以可转动的方式支承所述多个监别孔隙单元。通过本实用新型,可以容易地更换监别孔隙单元,以便实现连续的生产而无需频繁停机。
技术领域
本实用新型总体而言涉及半导体制造领域,具体而言,涉及一种监别孔隙装置。此外,本实用新型还涉及一种具有该监别孔隙装置的离子注入机。
背景技术
如今,半导体器件已深入到现代生活的方方面面。而诸如计算机、移动电话之类的大多数电子产品的核心部件、如处理器、存储器等都含有半导体器件。半导体器件已在现代信息化设备中扮演至关重要的角色。
半导体制造的一个重要工艺是离子注入。离子注入是指,将来自离子源的离子束进行加速和偏转后入射到目标材料中去,离子束最后停留在目标材料中,从而对目标材料的化学或物理性质进行调整。在半导体制造中,通常例如采用离子注入对目标材料进行掺杂、如n型或p型掺杂。
离子注入设备的一个重要组件是监别孔隙(Resolving Aperture) 装置,其位于分析磁铁的焦点处,其中监别孔隙装置具有让聚焦的离子通过的孔隙,这些离子在聚焦后再散射到目标材料的相应区域中。由于受到离子束的轰击,监别孔隙装置在实际使用中消耗较快,因此这经常造成停机以便对监别孔隙装置进行预防保养(PreventionMaintenance)或更换监别孔隙装置。
实用新型内容
本实用新型的任务是提供一种监别孔隙装置,通过使用该监别孔隙装置,可以容易地更换监别孔隙单元,以便实现连续的生产而无需频繁停机。
根据本实用新型,该任务通过一种监别孔隙装置来解决,该装置包括:
多个监别孔隙单元,其中每个监别孔隙单元包括石墨板,在所述石墨板上设置有供离子束穿过的孔隙,其中所述多个监别孔隙单元彼此连接,使得所述多个监别孔隙单元保持在同一平面内;以及
旋转组件,其用于以可转动的方式支承所述多个监别孔隙单元。
在本实用新型的一个优选方案中规定,所述多个监别孔隙单元包括 4个监别孔隙单元,并且所述监别孔隙单元的石墨板为方形且尺寸相同。通过该优选方案,可以实现形状规则的监别孔隙单元,由此促进各单元的旋转更换操作。在本实用新型的教导下,其它形状的石墨板也是可设想的、如圆形或矩形。
在本实用新型的一个扩展方案中规定,孔隙为矩形。根据不同应用需要,其它形状的孔隙也是可设想的。
在本实用新型的一个优选方案中规定,所述旋转组件为旋转轴,该旋转轴从所述多个监别孔隙单元的中心穿过。在本实用新型的教导下,其它形式的旋转组件也是可设想的、如旋转盘连接、旋转套筒连接、万向节连接等等。
在本实用新型的另一优选方案中规定,该监别孔隙装置还包括固定装置,所述固定装置被配置为相对于旋转组件固定所述多个监别孔隙单元中的一个或多个。通过该优选方案,可以将经旋转后的新监别孔隙单元相对固定,以便进行离子注入。
在本实用新型的又一优选方案中规定,所述旋转组件具有摩擦片,所述摩擦片布置在旋转组件与监别孔隙单元之间以用于阻止旋转组件与监别孔隙单元之间的相对滑动。通过采用摩擦片,可以防止监别孔隙单元的不期望的旋转或滑动,由此防止误操作。
在本实用新型的另一优选方案中规定,所述多个监别孔隙单元的孔隙具有不同的尺寸和/或形状以用于挑选不同的离子。通过该优选方案,可以在不同工艺要求的情况下,容易地更换所需的监别孔隙单元而不需要长时间的停机。
在本实用新型的第二方面,前述任务通过一种离子注入机来解决,该离子注入机具有根据本实用新型的监别孔隙装置。
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