[实用新型]一种化学气相沉积法制备多晶硅靶材的装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积法制备多晶硅靶材的装置，其特征为该装置为还原炉，其组成包括炉体、钢罩、底盘、金属管、第一石墨电极和第二石墨电极；

所述的炉体为钢制圆筒，顶部设置有钢罩，底部设置有钢制底盘，二者将炉体密闭；

所述的底盘中心设置有尾气出气口；上表面围绕出气口环形均匀分布有4～10个第二石墨电极，每个第二石墨电极上安装有可调节卡槽，卡槽内固定垂直安装的金属管的底端，金属管的底端和第二石墨电极电连接；

所述的底盘上，每个第二石墨电极的两侧均设置有一个进气管；

所述的炉体筒体上部的筒壁上，设置有与第二石墨电极数量相同条数的纵向滑槽，每条滑槽与一块水平移动板的一端相连，水平移动板另一端位于一个第二石墨电极的正上方，其下表面设置有第一石墨电极，第一石墨电极处也设置有可调节卡槽，金属管的顶端固定在卡槽内，金属管的顶端和第一石墨电极电连接；

所述的第一石墨电极和第二石墨电极极性相异。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积法制备多晶硅靶材的装置，其特征为所述的底盘上的进气管均在第二石墨电极与出气口的径向连线上。