[实用新型]水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备

权利要求书

1.一种水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，包括：

一沉积反应槽，两个相对位置的长槽壁内分别安装多个喷流模块，所述喷流模块能持续喷出反应液；

一移动机构，安装于所述沉积反应槽外壁，包括马达、传动组件及两组链条组，两组所述链条组分别设置于所述长槽壁外侧，所述链条组设有多个承接件，所述马达经由所述传动组件带动两个所述链条组同步移动；

多个载具，包括横杆及两承架，所述两承架呈对称状固定于所述横杆，所述两承架在另一侧具有开口，所述开口供电路板放入，所述载具以斜置形态由所述横杆两端架设于位置相对应的两个所述承接件内，所述斜置形态指所述载具位置与前进方向具有斜置角度，所述斜置角度为74～81度。

2.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，多个所述喷流模块呈交错分布方式设置于两个所述长槽壁。

3.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，多个所述喷流模块的喷流方向垂直于所述载具的移动方向。

4.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述载具还包括多个连接杆及保持杆，所述连接杆横向结合于两所述承架之间，所述保持杆结合于所述两承架的最底部位置，所述保持杆两端各设有保持片，两个所述保持片之间的距离，为所述电路板最大尺寸的宽度。

5.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述沉积反应槽安装反应液供给循环装置，所述反应液供给循环装置经管路与所述喷流模块相连接且控制运作时机。

6.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，还包括一转向放置机构，所述转向放置机构包括吊臂单元、转向悬臂单元及升降单元，所述升降单元架设于所述沉积反应槽，所述升降单元带动所述转向悬臂单元升降，所述转向悬臂单元具有悬臂，所述悬臂一端具有转向机构且安装着所述吊臂单元，所述吊臂单元两端各设有吊钩，所述转向悬臂单元能带动所述吊臂单元旋转，以切换所述吊钩的位置。

7.如权利要求6所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，还包括一上板机构，所述上板机构位置于暂存机一侧，所述上板机构位于所述转向放置机构的所述吊臂单元下降路径中，所述上板机构将所述载具调整为所述斜置形态，再供所述吊臂单元吊起所述载具。

8.如权利要求7所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述上板机构包括第一位置调整件、第二位置调整件、第一推动组及第二推动组，所述第一位置调整件具有第一初始凹槽及第一定位凹槽，所述第二位置调整件具有第二初始凹槽及第二定位凹槽，所述第一初始凹槽至所述第一定位凹槽的距离不等于所述第二初始凹槽至所述第二定位凹槽的距离；所述第一推动组安装于所述第一位置调整件，能带动第一推杆由所述第一初始凹槽移动至所述第一定位凹槽，所述第二推动组安装于所述第二位置调整件，能带动第二推杆由所述第二初始凹槽移动至所述第二定位凹槽。

9.如权利要求1所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述承接件具有朝上斜置的凹槽，所述凹槽用以承接所述载具。

10.如权利要求9所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述凹槽的槽形呈由上而下渐渐缩小的喇叭型。

11.如权利要求9所述的水平斜置方式逐片连续生产的化学沉积设备，其特征在于，所述凹槽中具有尺寸最小的颈部槽，所述凹槽以所述颈部槽为分界点尺寸分别向槽深处或槽入口渐渐增加。