[实用新型]气体绝缘开关柜有效

专利信息
申请号: 201921140084.3 申请日: 2019-07-19
公开(公告)号: CN210111458U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 梅圣伟;桂学良 申请(专利权)人: 武汉比邻科技发展有限公司
主分类号: H02B13/035 分类号: H02B13/035
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 徐瑛
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 气体 绝缘 开关柜
【说明书】:

本实用新型公开一种气体绝缘开关柜,包括柜体,所述柜体内设有:断路器室、母线室、线缆室、操作室、充气室、储气室以及干燥室;所述充气室、储气室、干燥室分别与断路器室通过电磁阀连通;所述母线室、线缆室、操作室分别与断路器室通过气密套管连接;所述断路器室内设有SF6气体浓度传感器、气压传感器以及湿度传感器;所述操作室内设有操作机构、控制器、通信模块以及显示器;所述操作机构、通信模块、显示器分别与控制器连接。本实用新型在检测到断路器室内发生SF6气体泄漏时,可以及时自动对断路器室内的SF6气体进行抽空储存,能有效防止SF6气体的进一步泄漏;并向断路器室内注入干燥空气,保证断路器室内的绝缘性良好,起到临时绝缘的作用。

技术领域

本实用新型属于开关柜技术领域,具体是一种气体绝缘开关柜。

背景技术

现有的气体绝缘开关柜主要是由断路器室、母线室、线缆室、操作室等组成;柜体内设有密封室,密封室抽真空后填充有高压绝缘气体;现有技术的气体绝缘开关柜存在的问题是:当开关柜安装在高原地区的铁路段时,由于安装地海拔高、空气稀薄及气压低,开关柜密封室内外的压力差较大,密封室因压力差大容易爆裂泄漏绝缘气体。

现有的气体绝缘开关柜采用的绝缘气体大都是SF6气体和N2,但由于SF6气体是一种温室气体,对环境危害较大;故防止SF6气体泄漏对于开关柜是极其重要的。

公开号为CN208352189U的中国专利公开了一种SF6气体绝缘真空断路器,包括灭弧室和操作机构,灭弧室外设置有内壳体和外壳体,内壳体与外壳体之间留有空间,内壳体内填充有SF6气体,在空间内设置有SF6传感器和风扇,该断路器还包括单片机以及与单片机连接的GSM模块、继电器模块、RS485通讯模块和电源模块,SF6传感器通过A/D转换电路与单片机连接,风扇与继电器模块连接,RS485通讯模块连接上位机。该真空断路器,采用双层壳体密封的方式,即便是内壳体漏气时,外壳体依然能发挥密封的作用,防止SF6气体溢出至外界环境中,使得该真空断路器具有极高的安全性;另外还实现了对SF6气体的远程监测和告警的功能,发生SF6气体泄漏时,使工作人员在第一时间能获知险情,为抢修争取宝贵的时间。该专利公开的断路器虽然能快速检测到SF6气体泄漏,但不能及时对SF6气体泄漏事故做出紧急处理,等工作人员获知险情赶往现场时,可能已经造成大部分SF6气体泄漏;同时由于断路器室内SF6气体泄漏会大大降低断路器室内的绝缘性,从而容易引发安全事故。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有技术存在的问题,提供一种气体绝缘开关柜,通过在开关柜体内部设置储气室、干燥室及多个传感器和电磁阀,在检测到断路器室内发生SF6气体泄漏时,可以及时自动对断路器室内的SF6气体进行抽空储存,能有效防止SF6气体的进一步泄漏;并向断路器室内注入干燥空气,保证断路器室内的绝缘性良好,起到临时绝缘的作用。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种气体绝缘开关柜,包括柜体,所述柜体内设有:断路器室、母线室、线缆室、操作室、充气室、储气室以及干燥室;所述充气室、储气室、干燥室分别与断路器室通过电磁阀连通;所述母线室、线缆室、操作室分别与断路器室通过气密套管连接;所述断路器室内设有SF6气体浓度传感器、气压传感器以及湿度传感器;所述操作室内设有操作机构、控制器、通信模块以及显示器;所述操作机构、通信模块、显示器分别与控制器连接;所述SF6气体浓度传感器、气压传感器、湿度传感器、电磁阀分别与控制器连接。

具体地,所述干燥室包括相互隔离的进气室和出气室;所述进气室、出气室内分别设有第一气泵和第二气泵,所述第一气泵用于将进气室内的干燥空气导入断路器室;所述第二气泵用于将断路器室内的空气导入出气室;所述进气室内还设有加热电网,用于对空气进行干燥;所述第一气泵、第二气泵、加热电网分别与控制器连接;通过设置进气室与出气室隔离的干燥室,并在进气室内设置加热电网,可向断路器室内通入干燥空气,并通过出气室将断路器室内的空气排出,形成空气流通,从而提高断路器室内的绝缘性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉比邻科技发展有限公司,未经武汉比邻科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921140084.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top