[实用新型]一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件有效

专利信息
申请号: 201921141209.4 申请日: 2019-07-19
公开(公告)号: CN210215526U 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 朱杰 申请(专利权)人: 张家港市和瑞创先智能光学有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C03C17/00
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 李猛
地址: 215623 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 水冷 磁控溅射 组件
【说明书】:

实用新型公开了一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件,包括:固定座和板状靶材,所述板状靶材沿固定座长度方向平行设置在固定座的正面,所述板状靶材背面对称设置有靠近边缘的滑槽,所述固定座上设置有延伸至滑槽中的条形滑块,所述条形滑块中沿长度方向设置有冷却水孔,所述板状靶材侧面设置有指向条形滑块的紧固螺钉。通过上述方式,本实用新型所述的镀膜用水冷磁控溅射靶组件,特别在固定座上设计了条形滑块,既方便了对板状靶材的限位及冷却水孔的加工,又不增加整体的厚度,冷却水孔与冷却水循环管路连接后,通入冷却水,实现条形滑块和固定座的冷却,进而实现板状靶材的降温,而且板状靶材的安装和拆卸比较便利。

技术领域

本实用新型涉及玻璃镀膜生产技术领域,特别是涉及一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件。

背景技术

玻璃的镀膜工艺是在玻璃表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物,以改变玻璃的光学性能,在手机屏幕玻璃领域应用广泛,目前比较先进的玻璃镀膜工艺包括有磁控贱射镀膜。磁控溅射镀膜的工作原理如下:

电子在电场的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子,新电子飞向基片,Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射,在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。

随着玻璃镀膜的进行,靶材的温度会升高而影响了使用的效果。为了进行靶材的冷却,可以在靶材的背面设置通冷却水的盘管,但是盘管多为铜管,增加了整体的厚度,影响了磁体的布置,而在靶材中加工冷却水孔的难度大,报废率高,还容易影响靶材的有效使用寿命。

另外,靶材大多焊接在固定座上,结构牢固,但是不容易拆卸分离和回收利用,拆卸过程中还容易损坏固定座,需要改进。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件,实现靶材的水冷,提升拆卸的便利性。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件,包括:固定座和板状靶材,所述板状靶材沿固定座长度方向平行设置在固定座的正面,所述板状靶材背面对称设置有靠近边缘的滑槽,所述固定座上设置有延伸至滑槽中的条形滑块,所述条形滑块中沿长度方向设置有冷却水孔,所述板状靶材侧面设置有指向条形滑块的紧固螺钉。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述固定座的背面设置有磁体。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述滑槽为T形槽,所述条形滑块的截面为T形结构。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述冷却水孔的两端分别设置有一段内螺纹。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述板状靶材的背面与固定座的正面相贴合。

在本实用新型一个较佳实施例中,所述板状靶材侧面内凹设置有与紧固螺钉对应的螺纹孔。

本实用新型的有益效果是:本实用新型指出的一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件,特别在固定座上设计了条形滑块,既方便了对板状靶材的限位及冷却水孔的加工,又不增加整体的厚度,冷却水孔与冷却水循环管路连接后,通入冷却水,实现条形滑块和固定座的冷却,进而实现板状靶材的降温,而且板状靶材的安装和拆卸比较便利,有利于固定座的重复利用。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:

图1是本实用新型一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件一较佳实施例的结构示意图;

图2是图1的俯视图。

具体实施方式

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