[实用新型]一种低表面浓度深结太阳能电池片有效

专利信息
申请号: 201921145181.1 申请日: 2019-07-22
公开(公告)号: CN210110794U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 钮阿兴;翟文杰 申请(专利权)人: 宜兴锦尚太阳能科技有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/068
代理公司: 无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙) 32208 代理人: 蒋何栋
地址: 214200 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 浓度 太阳能电池
【权利要求书】:

1.一种低表面浓度深结太阳能电池片,包括晶体硅片、设置于晶体硅片受光面的栅线电极以及设置于晶体硅片背光面的背电极,其特征在于,所述晶体硅片由上下分布的扩散层和基底层构成,所述扩散层分为轻掺杂区和重掺杂区,重掺杂区分布于栅线电极的栅线的下方,重掺杂区的顶端面与栅线电极的栅线的底端面重叠且大小一致,所述重掺杂区的掺杂浓度高于轻掺杂区的掺杂浓度,重掺杂区的结深高于轻掺杂区的结深。

2.根据权利要求1所述的一种低表面浓度深结太阳能电池片,其特征在于,所述重掺杂区的掺杂浓度为1.0×1020cm-3~3.0×1020cm-3,结深为600nm~800nm;所述轻掺杂区的掺杂浓度为1.0×1016cm-3~1.0×1017cm-3,结深为100nm~500nm。

3.根据权利要求1所述的一种低表面浓度深结太阳能电池片,其特征在于,所述栅线电极为正银电极;所述背电极为银铝电极。

4.根据权利要求1所述的一种低表面浓度深结太阳能电池片,其特征在于,所述晶体硅片为为P型硅片;所述扩散层为磷扩散层。

5.根据权利要求1所述的一种低表面浓度深结太阳能电池片,其特征在于,所述晶体硅片的扩散层上附着有一层氮化硅膜。

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