[实用新型]一种用于反抛机的磨头密封机构

说明书

本实用新型公开了一种用于反抛机的磨头密封机构，包括磨头座、磨头、磨头罩以及防水盖，磨头罩可转动的安装于磨头座的底端；防水盖密封封装于磨头罩的底端以使磨头罩内形成油腔；磨头通过转轴枢接于磨头座内；转轴的底端由磨头座的底端穿出并枢接于油腔内；防水盖的外周缘设有沿防水盖的周向延伸的第一防水板以及第二防水板，第一防水板和第二防水板沿防水盖的径向分布；第一防水板和第二防水板之间间隔形成防水槽；磨头罩的底端设有沿磨头罩周向延伸的第一挡水板以及第二挡水板，第一挡水板抵接于第一防水板的外侧并由第一防水板的底端向下延伸；第二挡水板插装于防水槽内。本实用新型有效防止磨头座下方的油腔进水。

技术领域

本实用新型涉及一种抛光设备技术领域，尤其涉及一种用于反抛机的磨头密封机构。

背景技术

目前，抛光机主要是用于对工件的打磨抛光，以瓷砖的抛光为例，瓷砖包括用于铺贴的背面(粗糙面)和装饰面(光滑面)，而通常所说的打磨是对其装饰面进行打磨。常见的用于瓷砖的抛光机是利用打磨装置在瓷砖的装饰面上方进行打磨，打磨后残留的残屑会残留在装饰面上，影响打磨质量。而反抛机则可通过在设置在瓷砖的装饰面下方的打磨装置，打磨装置的磨轮在装饰面下方进行抛光打磨，产生的残屑可直接在自身重力下掉落，因而打磨效果会更好，故倒置式的抛光机应用越来越广。

但是，磨头在工作过程中，需要不停的旋转，为了保持其内部驱动结构顺利运转，会在磨头座的下方设置油腔，通过防水盖进行密封，而反抛机由于工件在上，磨轮在下，磨轮上残屑或者工件的水会在自身重力下沿磨头座下落，因而水容易从磨头座下方进水，污染磨头的循环润滑油，导致润滑油需更换，同时水汽也造成部件生锈损伤。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于反抛机的磨头密封机构，其有效防止磨头座下方的油腔进水。

本实用新型的目的采用如下技术方案实现：

一种用于反抛机的磨头密封机构，包括磨头座、磨头、磨头罩以及防水盖，磨头罩可转动的安装于磨头座的底端；防水盖密封封装于磨头罩的底端以使磨头罩内形成油腔；所述磨头通过转轴枢接于磨头座内；所述转轴的底端由磨头座的底端穿出并枢接于所述油腔内；所述防水盖的外周缘设有沿防水盖的周向延伸的第一防水板以及第二防水板，第一防水板和第二防水板沿防水盖的径向分布；第一防水板和第二防水板之间间隔形成防水槽；所述磨头罩的底端设有沿磨头罩周向延伸的第一挡水板以及第二挡水板，第一挡水板抵接于第一防水板的外侧并由第一防水板的底端向下延伸；所述第二挡水板插装于所述防水槽内。

进一步地，所述防水槽内设有排水孔。

进一步地，所述排水孔设有多个，多个排水孔绕防水盖的中心轴线圆周间隔分布。

进一步地，所述磨头罩的底端设有第三挡水板，第三挡水板抵接于第二防水板的内侧。

进一步地，防水盖位于第二防水板的内侧设有密封板，密封板沿防水盖的周向延伸；密封板与磨头罩的内壁之间夹持有密封圈；密封圈位于防水槽的上方。

相比现有技术，本实用新型的有益效果在于：其磨头上的打磨残液或者水可沿磨头罩向下滑落，磨头罩底端的第一挡水板可将其挡在防水槽外，且第一挡水板由第一防水板的底端向下延伸，即第一挡水板可完全覆盖在磨头罩和防水盖的衔接间隙，使水直接向下掉落打磨残液或者水，且在磨头转动过程中磨头罩可以相对磨头座转动，因而磨残液或者水在离心力的作用下甩出，防水效果更好。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为图1中的A处放大结构示意图；

图3为本实用新型的防水盖的局部结构示意图。