[实用新型]MEMS设备

权利要求书

1.一种MEMS设备，其特征在于，包括：

介电涂层区域，所述介电涂层区域具有第一表面和第二表面；

介电再分布区域，所述介电再分布区域具有第一表面和第二表面，所述介电再分布区域的第一表面接触所述介电涂层区域的第一表面；

裸片，所述裸片被布置在所述介电涂层区域中并且包括电子电路；

多个第一导电连接元件，所述多个第一导电连接元件被定位在所述介电涂层区域中，延伸至所述介电涂层区域的所述第一表面，并且被电耦合至所述裸片；

多个第二导电连接元件，所述多个第二导电连接元件被定位在所述介电再分布区域中，并且延伸至所述介电再分布区域的所述第二表面；

多个导电再分布路径，所述多个导电再分布路径在所述介电再分布区域中延伸，并且将所述第二导电连接元件连接至所述第一导电连接元件；

第三导电连接元件，所述第三导电连接元件与所述第二导电连接元件电接触；

多个膜；以及

多个致动器，所述多个致动器被电耦合至所述第三导电连接元件，每个致动器还是可电控的，以引起所述多个膜中的对应膜的变形。

2.根据权利要求1所述的MEMS设备，其特征在于，进一步包括：支撑结构，所述支撑结构形成所述膜，并且所述致动器被机械耦合至所述支撑结构；其中，所述第三导电连接元件具有细长形状，并且被布置在所述支撑结构的面向所述介电再分布区域的侧面上。