[实用新型]电诱导辅助化学机械抛光测试装置有效
申请号: | 201921151577.7 | 申请日: | 2019-07-22 |
公开(公告)号: | CN210281867U | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 寇青明;钮市伟;王永光;陈瑶;赵栋;刘卫卫 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/34;C25F3/30;C25F7/00 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 查杰 |
地址: | 215168 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 诱导 辅助 化学 机械抛光 测试 装置 | ||
1.一种电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,包括:抛光液池、抛光垫、抛光盘、抛光头、驱动器、负电极以及外接电源;
所述抛光液池用于盛装抛光电解液,其通过所述抛光盘带动而旋转;所述抛光垫贴合于抛光液池的底壁上;
所述抛光头用于固定待抛光的晶片,并通过所述驱动器驱动而与所述抛光垫相对反向旋转,以对晶片进行机械抛光;
所述外接电源的正极与所述晶片接通,负极与所述负电极接通;
使用时,所述负电极与抛光头至少部分地浸没于抛光电解液中,外接电源、晶片、抛光电解液与负电极之间构成闭合回路,从而使得晶片与负电极之间形成电势差。
2.如权利要求1所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,所述晶片为GaN晶片。
3.如权利要求1所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,所述抛光头包括一抛光头轴以及固定于抛光头轴上的抛光头本体,所述抛光头轴与抛光头本体之间设有多个支撑板。
4.如权利要求1所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,还包括一导电滑环,所述导电滑环的外圈和内圈分别具有外圈引线和内圈引线,所述外接电源和晶片通过导线分别与所述外圈引线和内圈引线电连接,从而使外接电源与晶片之间导通。
5.根据权利要求1所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,所述外接电源选自直流电源、恒电位仪、电化学工作站、干电池中的一种或多种。
6.如权利要求1所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,所述负电极为铂电极。
7.如权利要求4所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,还包括电解液池、电化学工作站、盐桥、参比电极以及辅助电极;
所述电解液池用于盛装电解液,所述电解液与抛光液池中的抛光电解液通过所述盐桥连接;
所述电化学工作站的WE端与所述导电滑环的外圈引线电连接,RE端与所述参比电极电连接,CE端与所述辅助电极电连接。
8.如权利要求7所述的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,其特征在于,所述电诱导辅助化学机械抛光测试装置还包括与电化学工作站连接的PC。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学,未经苏州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921151577.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。