[实用新型]水冷等离子割枪

权利要求书

1.一种水冷等离子割枪，其特征在于，包括喷嘴座组件(1)、喷嘴(2)、电极(3)和电极座组件(6)，所述喷嘴座组件(1)设有喷嘴座本体(12)，所述电极座组件(6)设有电极座(62)；所述喷嘴座本体(12)上设有一进水孔(14)，喷嘴座本体(12)的前端还设有保护套座(13)，所述保护套座(13)的内壁和喷嘴座本体(12)的外壁之间设有环形的第一水腔(15)，所述进水孔(14)的前端与所述第一水腔(15)连通，进水孔(14)的后端连通设置进水管(11)；所述喷嘴座本体(12)上还设有一出水孔(16)，所述出水孔(16)的前端与所述第一水腔(15)连通；所述电极座(62)的后端设有导流块(63)，所述导流块(63)中设有导流孔(630)，所述出水孔(16)的后端通过中间过渡水管(5)与所述导流孔(630)的入口端连通；所述电极座(62)为中空结构，所述中空结构中设有出水管(61)，所述出水管(61)的一端延伸至电极(3)中设置的空腔内，出水管(61)的另一端穿出所述导流块(63)；所述出水管(61)的外壁与所述电极座(62)的内壁及电极(3)的内壁之间设有第二水腔(18)，所述导流孔(630)的出口端与所述第二水腔(18)连通。

2.根据权利要求1所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述电极座(62)设于喷嘴座本体(12)内，电极座(62)和喷嘴座本体(12)之间设有涡流环(4)。

3.根据权利要求2所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述电极座(62)的前端设置电极(3)，电极(3)的后端至少一部分位于所述涡流环(4)内。

4.根据权利要求1所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述喷嘴座本体(12)的前端设置喷嘴(2)，所述电极(3)的前端至少一部分位于所述喷嘴(2)内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述导流块(63)中设置的导流孔(630)呈九十度角布置。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述出水管(61)的顶部与所述电极(3)的内壁端部之间设有间距。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述进水孔(14)和所述出水孔(16)在所述喷嘴座本体(12)上对称设置。

8.根据权利要求7所述的一种水冷等离子割枪，其特征在于，所述喷嘴座本体(12)为圆环状结构，所述电极座(62)及涡流环(4)设于所述圆环状结构的内孔中，所述进水孔(14)和出水孔(16)分别设于所述圆环状结构的环体中。