[实用新型]密闭压片装置

说明书

本实用新型属于片剂密闭生产装置领域，涉及一种密闭压片装置，包括压片室上顶板、上预压轮、上主压轮、上轨道、转台、压片室下底板和下轨道，上轨道、上预压轮和上主压轮设置于密闭隔离罩内，密闭隔离罩顶端与压片室上顶板连接，密闭隔离罩底端设有通孔一，转台顶部设于通孔一处；与转台的下端面平齐处设有压片室下底板，压片室下底板设有通孔二，转台的下端面置于通孔二处。本实用新型能够将上轨道、上预压轮、上主压轮、下轨道、下预压轮和下主压轮均与压片室隔离，保证工作过程中，其不会被污染，降低清洁难度。

技术领域

本实用新型涉及一种密闭压片装置，属于片剂密闭生产装置领域。

背景技术

如图2，现有的压片装置包括上轨道、转台和下轨道，转台中部位置设有中模盘，中模盘外圈均匀布置有若干中模孔，每个中模孔上方的转台活塞通道内和下方的转台活塞通道内分别设有与之对应的上冲和下冲，上冲、中模孔和下冲的中心线重合，上冲上端位于上轨道内，下冲下端位于下轨道内；上轨道处设有上预压轮和上主压轮，上预压轮和上主压轮上方为压片室上顶板，下轨道处设有下预压轮和下主压轮。片剂密闭生产装置一般流程为：粉体经过密闭供料系统进入压片室中的中模孔，转台转动带动上冲、下冲水平旋转运行，上冲、下冲在上轨道、下轨道的导向作用下上下运行，冲经过下预压轮、上预压轮将粉体初步压缩排气，再经过下主压轮、上主压轮进一步将粉体压缩成型，形成片剂产品，片剂产品最后通过出料口出来。

现有产品使用过程中存在的问题：主、预压轮、轨道及其相关的支撑部件完全暴露在压片室内，在片剂生产过程中，由于转台的高速旋转，使得粉体粉尘充满整个压片室；而主、预压轮、轨道及其相关连接支撑部件完全暴露在压片室内，粉体粉尘极易进入缝隙死角，清洁非常的困难，并且会导致缝隙死角内有粉尘的残留，极大可能造成不同产品的交叉污染；生产结束后，需要对压片室进行清洗，清洗液体极易进入主、预压轮，轨道及其相关连接支撑部件之间的缝隙死角，清洁非常困难，会导致缝隙死角内有清洗液体的残留，清洁难度大，劳动强度大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种密闭压片装置，该密闭压片装置增加了密闭隔离罩，将上轨道、上预压轮和上主压轮相关连接支撑部件密闭集成在其内部，完全与压片室隔离，改变压片室下底板的位置，将下轨道、下预压轮和下主压轮与压片室隔离，避免了与相关的缝隙死角暴露在压片室内，降低了清洁难度。

本实用新型所述的密闭压片装置，包括压片室上顶板、上预压轮、上主压轮上轨道、转台、压片室下底板和下轨道，上轨道、上预压轮和上主压轮设置于密闭隔离罩内，密闭隔离罩顶端与压片室上顶板连接，密闭隔离罩底端设有通孔一，转台顶部设于通孔一处；与转台的下端面平齐处设有压片室下底板，压片室下底板设有通孔二，转台的下端面置于通孔二处。

将上轨道、上预压轮和上主压轮以及相关连接支撑零部件，下轨道、下预压轮和下主压轮以及相关连接支撑零部件，均与压片室隔离，保证工作过程中，转台高速旋转，即便粉体粉尘充满整个压片室，也不会造成上轨道、上预压轮、上主压轮、下轨道、下预压轮和下主压轮的污染。转台由整机上的电机带动旋转，压片室上顶板和压片室下底板均与整机的封闭罩固定连接。

优选的，所述的转台顶部与密闭隔离罩底面通孔一之间增设上Vd密封圈；压片室下底板的通孔二与转台下端面之间增设下Vd密封圈。上Vd密封圈和下Vd密封圈的设置，可以更加有效的保证上轨道、上预压轮、上主压轮、下轨道、下预压轮和下主压轮均与压片室密闭隔离。

优选的，所述的上轨道、上预压轮和上主压轮分别与密闭隔离罩可拆卸连接。上轨道、上预压轮和上主压轮集成在密闭隔离罩内，可将部件在总装前即完成集成，降低总装过程步骤，简单方便；并且上轨道、上预压轮和上主压轮分别与密闭隔离罩为可拆卸连接。

优选的，所述的密闭隔离罩与压片室上顶板可拆卸连接，便于密闭隔离罩与其内部部件整体拆装。当某个部件出现损坏时，可以将集成有上轨道、上预压轮和上主压轮的密闭隔离罩整体移出，再对损坏部件进行维护更换，避免了在狭小空间内不方便操作。